东京毅力科创株式会社田中幸二获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基片处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN109698146B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201811240941.7，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权基片处理装置是由田中幸二;池田贵志;益富裕之设计研发完成，并于2018-10-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种能够均匀地蚀刻基片的基片处理装置。实施方式的基片处理装置包括基片处理槽、处理液供给喷嘴和调压板。处理液供给喷嘴设置在基片处理槽内的下方，从多个排出口排出处理液。调压板设置在处理液供给喷嘴与基片处理槽内的基片之间，具有使处理液流通的多个孔，调节从处理液供给喷嘴排出的处理液的流入压力。另外，调压板具有从处理液供给喷嘴侧的面突出且将处理液供给喷嘴侧的面划分为多个划分区域的棱。
本发明授权基片处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基片处理装置，其特征在于，包括： 基片处理槽； 处理液供给喷嘴，其设置在所述基片处理槽内的下方，从多个排出口排出处理液； 调压板，其设置在所述处理液供给喷嘴与所述基片处理槽内的基片之间，具有使所述处理液流通的多个孔，调节从所述处理液供给喷嘴排出的所述处理液的流入压力；和 气泡产生部或者气泡产生喷嘴，所述气泡产生部在向所述处理液供给喷嘴供给所述处理液的处理液供给路径中产生气泡，所述气泡产生喷嘴是设置在所述基片处理槽内的与所述处理液供给喷嘴不同的喷嘴，能够在所述基片处理槽内产生气泡， 所述调压板具有从所述处理液供给喷嘴侧的面突出的将所述处理液供给喷嘴侧的面划分为多个划分区域的棱，所述棱在利用混合有气泡的所述处理液对所述基片进行处理时，抑制气泡在所述划分区域之间的移动，从而抑制通过所述多个孔向上方流动的气泡发生不均。
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