杭州富芯半导体有限公司李建鑫获国家专利权
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龙图腾网获悉杭州富芯半导体有限公司申请的专利一种光刻机的光源结构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223217781U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422570617.9，技术领域涉及：G03F7/20；该实用新型一种光刻机的光源结构是由李建鑫;何晶洋设计研发完成，并于2024-10-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光刻机的光源结构在说明书摘要公布了：本实用新型涉及一种光刻机的光源结构，涉及光刻技术领域。该光刻机的光源结构包括支撑结构、灯体、遮挡结构、温度检测装置以及降温装置，其中支撑结构具有第一开口，灯体产生的激光可以从第一开口中透过从而进行曝光工艺，遮挡结构可以控制第一开口的打开与关闭。为了保证灯体一直打开的同时，不损坏遮挡结构，通过温度检测装置对遮挡结构进行的温度检测，然后将遮挡结构的温度反馈给降温装置，降温装置根据遮挡结构的温度大小进行精准的降温，从而避免了遮挡结构因热量过高而损坏，进一步的避免了光刻机机台的停机。
本实用新型一种光刻机的光源结构在权利要求书中公布了：1.一种光刻机的光源结构，其特征在于，所述光刻机的光源结构包括： 支撑结构、灯体、遮挡结构、温度检测装置以及降温装置； 所述支撑结构具有第一开口，所述第一开口用于透光； 所述灯体位于所述支撑结构的一侧，用于发射激光； 所述遮挡结构位于所述支撑结构背离所述灯体的一侧，用于打开或关闭所述第一开口； 所述温度检测装置，用于检测所述遮挡结构的温度，并反馈给所述降温装置； 所述降温装置位于所述遮挡结构背离所述支撑结构的一侧，用于根据所述温度检测装置的反馈对所述遮挡结构降温。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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