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龙图腾网获悉江苏皓兮数智能源技术开发有限公司申请的专利一种旋转靶磁控溅射装置及控制方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118854241B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411345316.4，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种旋转靶磁控溅射装置及控制方法是由刘若玙;陈为群;高惠设计研发完成，并于2024-09-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种旋转靶磁控溅射装置及控制方法在说明书摘要公布了：本申请提供了一种旋转靶磁控溅射装置及控制方法，首先获取旋转靶材厚度随使用时间变化的消耗速率，基于旋转靶材的消耗速率对电磁组件的电流进行动态调整，使得旋转靶材溅射表面磁场强度处于动态稳定状态；保证转靶材消耗的均匀性，在实际溅射过程中能够得到更均匀分布的溅射沉积膜。然后检测基片上溅射膜的均匀度，基于溅射膜的均匀度调整电磁组件与永磁组件的相对位置，从而调整磁极机构磁通量密度，进一步增加基片上溅射沉积膜的均匀性和稳定性。

本发明授权一种旋转靶磁控溅射装置及控制方法在权利要求书中公布了：1.一种旋转靶磁控溅射控制方法，其特征在于，所述方法包括： 获取旋转靶材（11）的消耗速率； 基于旋转靶材（11）的消耗速率对电磁组件（32）的电流进行动态调整，使得旋转靶材（11）溅射表面磁场强度处于动态稳定状态； 检测基片上溅射膜的均匀度； 基于溅射膜的均匀度调整磁极机构（3）磁通量密度，得到更加均匀、稳定的溅射膜； 其中，利用如下公式对电磁组件（32）的电流进行动态调整：， 式中，I为励磁电流，B0为永磁组件（31）表面磁感强度，L为电磁组件（32）的高度，Le为有效 磁路长度，t为靶材消耗的时间，V为靶材消耗速率，μ0是真空磁导率，μr为磁介质的相对磁导 率，N为励磁线圈的匝数，L1为靶材表面轴线与电磁组件（32）的距离； 所述磁极机构（3）包括：永磁组件（31）和对称设在永磁组件（31）两侧的两个可移动的电磁组件（32），控制模块（6）控制所述两个电磁组件（32）同步向永磁组件（31）靠近或远离，从而增加或减少磁极机构（3）磁通量密度； 利用如下公式对电磁组件（32）与永磁组件（31）之间的距离进行动态调整：，式中，Φχ为靶材单位面积上磁通量密度，B0为永磁组件（31）表面磁 感强度，S为靶材上的单位面积，a为电磁组件（32）与永磁组件（31）之间的距离，χ为电磁组 件（32）移动的距离，L1为靶材表面轴线与电磁组件（32）的距离。

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