中物院成都科学技术发展中心唐昶宇获国家专利权
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龙图腾网获悉中物院成都科学技术发展中心申请的专利一种狭窄金属通道内壁超滑结构及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119196411B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411243798.2，技术领域涉及：F16L9/147；该发明授权一种狭窄金属通道内壁超滑结构及其制备方法和应用是由唐昶宇;肖体伟;李樊;温金鹏;谭鸿;陈勇前;徐小博设计研发完成，并于2024-09-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种狭窄金属通道内壁超滑结构及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种狭窄金属通道内壁超滑结构及其制备方法和应用，涉及材料表面加工技术领域；该超滑结构包括在狭窄金属通道内壁通过高压渗透反应刻蚀形成的分级微纳粗糙结构，以及通过改性中间体接枝在所述分级微纳粗糙结构上的反应性硅油；其通过高压渗透反应刻蚀而成的不同孔径的粗糙结构，使粗糙结构的均匀性得到了显著提高，硅油能够更好的驻留在粗糙结构中，粗糙结构稳定性和耐磨性得到显著增强；同时，通过改性中间体将硅油接枝在粗糙结构上，硅油能够形成更为稳定的流动润滑层，耐磨性更好得到进一步提高。该超滑结构能够显著降低通道中的流动阻力的同时，更具有优异的耐磨性和稳定性，适合在降低狭窄通道流动阻力处理中大规模推广应用。
本发明授权一种狭窄金属通道内壁超滑结构及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种狭窄金属通道内壁超滑结构，其特征在于，包括在狭窄金属通道内壁通过高压渗透反应刻蚀形成的分级微纳粗糙结构，以及通过改性中间体接枝在所述分级微纳粗糙结构上的反应性硅油； 其中，所述狭窄金属通道为内径不大于400μm的金属通道； 所述高压渗透反应的化学反应压力不小于1MPa； 所述分级微纳粗糙结构包括孔径为1-10μm的微米级粗糙结构和孔径为10-100nm的纳米级粗糙结构； 所述改性中间体包括硅氧烷、异氰酸酯及自聚物、氨基硅烷中的至少一种； 所述反应性硅油为氨基硅油、羟基硅油、环氧基硅油、羟基氟醚硅油中的至少一种。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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