昆山协鑫光电材料有限公司李怀健获国家专利权
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龙图腾网获悉昆山协鑫光电材料有限公司申请的专利兼容原子层沉积和物理气相沉积的设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223214172U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422061700.3,技术领域涉及:C23C16/455;该实用新型兼容原子层沉积和物理气相沉积的设备是由李怀健;安扬;金贞;田清勇;范斌;戴忠和;武笑雨设计研发完成,并于2024-08-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本兼容原子层沉积和物理气相沉积的设备在说明书摘要公布了:本实用新型公开了一种兼容原子层沉积和物理气相沉积的设备,其包括:沉积室以及与沉积室配合的第一环境调节单元、第一前驱物供应单元和第二前驱物供应单元、原子层沉积激发单元和物理气相沉积激发单元、第一传送装置,第一环境调节单元用于调节沉积室内的温度以及真空度;第一前驱物供应单元用于提供第一前驱物,第二前驱物供应单元用于提供第二前驱物;原子层沉积激发单元用于将第一前驱物转化形成原子层沉积层,物理气相沉积激发单元用于将第二前驱物转化形成物理气相沉积层。本实用新型将ALD设备与PVD设备集成为一体,可在同一个腔室内同时完成ALD沉积工艺和PVD沉积工艺,能够节约设备成本,简化工艺流程。
本实用新型兼容原子层沉积和物理气相沉积的设备在权利要求书中公布了:1.一种兼容原子层沉积和物理气相沉积的设备,其特征在于,包括: 沉积室,用于提供进行原子层沉积和物理气相沉积的密闭环境,所述沉积室上设置有多个工艺窗口和多个挡板,每一所述挡板与至少一工艺窗口相匹配,所述挡板用于打开、关闭与之对应的所述工艺窗口; 第一环境调节单元,用于调节所述沉积室内的温度以及真空度,以在所述沉积室内形成原子层沉积和物理气相沉积所需的环境; 至少一第一前驱物供应单元和至少一第二前驱物供应单元,所述第一前驱物供应单元、所述第二前驱物供应单元分别独立地与一所述工艺窗口相连接,所述第一前驱物供应单元用于自与之对应的所述工艺窗口向所述沉积室内提供原子层沉积所需的第一前驱物,所述第二前驱物供应单元用于自与之对应所述工艺窗口向所述沉积室内提供物理气相沉积所需的第二前驱物; 至少一原子层沉积激发单元和至少一物理气相沉积激发单元,所述原子层沉积激发单元用于将所述沉积室内的所述第一前驱物转化形成原子层沉积层,所述物理气相沉积激发单元用于将所述沉积室内的所述第二前驱物转化形成物理气相沉积层; 第一传送装置,设置在所述沉积室内,并用于在所述沉积室内转移样品以及带动所述样品往复运动。
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