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龙图腾网获悉惠州达诚微电子材料有限公司申请的专利一种光刻胶用剥离液及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118295222B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410545014.5，技术领域涉及：G03F7/42；该发明授权一种光刻胶用剥离液及其制备方法是由卢燕燕;张丽燕;陈美玲设计研发完成，并于2024-05-06向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种光刻胶用剥离液及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种光刻胶用剥离液及其制备方法，剥离液按照重量份数计算，包括：32‑58份有机胺、0.5‑2.5份螯合剂、0.2‑2份表面活性剂和50‑80份有机溶剂；其中，所述有机胺为2‑羟基吡啶‑N‑氧化物和单乙醇胺经过酯化反应结合后的反应产物。本发明所制备的剥离液具备强大的去胶能力，在对于光刻胶剥离后，能够达到基材基本无残留，并且在去除残留物的同时，不会对下层的衬底造成损伤，对于基材的侵蚀性较小，能够非常好的满足对于精度和质量要求较高的工艺。

本发明授权一种光刻胶用剥离液及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种光刻胶用剥离液，其特征在于，按照重量份数计算，包括： 32-58份有机胺、0.5-2.5份螯合剂、0.2-2份表面活性剂和50-80份有机溶剂； 其中，所述有机胺为2-羟基吡啶-N-氧化物和单乙醇胺经过酯化反应结合后的反应产物； 所述有机胺的制备方法包括： S1、添加保护基团： 称取单乙醇胺溶解在乙醇溶剂中，调节反应液的pH为8.0-8.5，之后在1h内逐渐加入氯甲酸苄酯，全部加入后，室温搅拌反应10-15h，反应结束后，减压至溶剂全部挥发，经过萃取和干燥后，得到苄氧羰基保护的单乙醇胺； S2、与2-羟基吡啶-N-氧化物反应： 在氮气的保护下，称取苄氧羰基保护的单乙醇胺和N,N-二甲基乙酰胺混合，充分混合之后，依次加入1,3-二环己基碳二亚胺和4-二甲氨基吡啶，室温调节下搅拌半小时，逐渐加入2-羟基吡啶-N-氧化物，加入完毕后，保持室温搅拌10-20h后，减压干燥，过柱层析分离，得到苄氧羰基保护的有机胺； S3、去除保护基： 将苄氧羰基保护的有机胺和乙醇混合在反应釜内，加入催化剂钯碳，再通入氢气，室温下搅拌反应4-6h后，过滤除去固体，减压干燥后，即得到最终产物有机胺。

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