中国科学院合肥物质科学研究院田兴友获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院合肥物质科学研究院申请的专利一种带有强Al-O键合的原子层渗透沉积复合薄膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117926223B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311830491.8，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权一种带有强Al-O键合的原子层渗透沉积复合薄膜及其制备方法是由田兴友;姚运乐;宫艺;胡锐;丁建军;张献;李潇潇;陈林;王化设计研发完成，并于2023-12-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种带有强Al-O键合的原子层渗透沉积复合薄膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种带有强Al‑O键合的原子层渗透沉积复合薄膜，包括有机层、有机‑无机杂化层、无机层，所述有机层为PET、PEN或PI，所述无机层为氧化铝、氧化钛或氧化锆，所述有机‑无机杂化层为有机层与无机层所形成的复合层。本发明提供了一种提高无机涂层材料在有机基底内部和表面附着能力的方法，该方法用于在柔性基底的内部形成紧凑的带有AI‑O键合的有机‑无机杂化层，在柔性基底表面形成带有AI‑O键合的无机薄膜层。本发明涉及电晕处理柔性基底进而提高无机涂层在柔性基底表面和内部的附着结合能力，尤其适用于改性氧化铝复合薄膜的封装应用场景。
本发明授权一种带有强Al-O键合的原子层渗透沉积复合薄膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种带有强AI-O键合的原子层渗透沉积复合薄膜的制备方法，所述复合薄膜包括有机-无机杂化层，所述有机-无机杂化层为无机层材料渗透进有机层内部所形成的复合层，其特征在于，所述制备方法包括下述步骤： （1）对有机柔性基底进行电晕预处理； （2）将有机基底放入原子层沉积反应器，设置原子层沉积的腔体反应温度为80℃-100℃，设置原子层沉积腔体进气口和出气口温度为150℃-200℃，清洗前驱体通路； （3）通入金属有机前驱体脉冲，时间长度为0.02s-2s，然后关闭截止阀等待20s-110s，所述金属有机前驱体为至少含有三甲基铝的有机金属，其中含有或者不含有四甲基（二甲氨基）钛和或四二甲酰胺锆；通入吹扫气以清除密封腔体内部残留； （4）通入氧源前驱体脉冲，时间长度为0.5s-3s，然后关闭截止阀门等待20s-110s，通入吹扫气以清除该密封腔体内部残留； （5）重复循环步骤（3）（4），直至沉积厚度达到预设厚度。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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