沈阳大学朱会敏获国家专利权
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龙图腾网获悉沈阳大学申请的专利一种电化学沉积制备CeO2/NiO涂层的方法及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116463704B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310530408.9，技术领域涉及：C25D9/10；该发明授权一种电化学沉积制备CeO2/NiO涂层的方法及其应用是由朱会敏;张钧设计研发完成，并于2023-05-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种电化学沉积制备CeO2/NiO涂层的方法及其应用在说明书摘要公布了：本发明涉及CeO2NiO涂层的制备领域，具体涉及一种电化学沉积制备CeO2NiO涂层的方法及其应用，具体制备步骤如下：（1）分步电化学沉积，获得CeO2Ni复合涂层；（2）热转化，获得CeO2NiO涂层。该方法具有制备过程简单易操作，适用于形状复杂的不锈钢连接体基体等特点，所制备的CeO2与NiO具有协同改善不锈钢连接体的高温抗氧化性能和导电性能作用，其中CeO2层为多级纳米结构，可以增加Cr2O3形核位点，有效抑制互扩散。
本发明授权一种电化学沉积制备CeO2/NiO涂层的方法及其应用在权利要求书中公布了：1.一种电化学沉积制备CeO2NiO涂层的方法，其特征在于，包括以下步骤： （1）以石墨作为阳极，打磨清洗后的基体作为阴极，进行电化学沉积CeO2，再在CeO2间隙电沉积金属Ni，得到Ni镶嵌CeO2的纳米复合涂层； （2）将沉积后的样品置于800°C电阻炉中进行氧化，获得CeO2NiO涂层。
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