舜宇奥来半导体光电(上海)有限公司沈健获国家专利权
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龙图腾网获悉舜宇奥来半导体光电(上海)有限公司申请的专利改善鬼像的光机结构及其制作方法、显示波导装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115993725B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310129563.X，技术领域涉及：G02B27/01；该发明授权改善鬼像的光机结构及其制作方法、显示波导装置是由沈健;兰顺;陈远设计研发完成，并于2023-02-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本改善鬼像的光机结构及其制作方法、显示波导装置在说明书摘要公布了：本发明提供了一种改善鬼像的光机结构及其制作方法、显示波导装置。改善鬼像的光机结构包括：显示面板，显示面板上设置有多个像素，多个像素之间存在间隙；填充层，填充层设置在显示面板具有多个像素的一侧表面上，且仅多个像素之间的间隙处填充设置有填充层，填充层至少包括反射层和吸光层。本发明解决了现有技术中的光机结构存在鬼像改善困难的问题。
本发明授权改善鬼像的光机结构及其制作方法、显示波导装置在权利要求书中公布了：1.一种改善鬼像的光机结构的制作方法，其特征在于，所述光机结构包括显示面板（10）和填充层，所述显示面板（10）上设置有多个像素（20），多个所述像素（20）之间存在间隙；所述填充层设置在所述显示面板（10）具有多个所述像素（20）的一侧表面上，且仅多个所述像素（20）之间的间隙处填充设置有所述填充层，所述填充层至少包括反射层（31）和吸光层（32）；所述制作方法包括： 步骤S1：获取所述光机结构的多个所述像素（20）的发光波长范围； 步骤S2：根据多个所述像素（20）的发光波长范围获取与之匹配的所述吸光层（32）的材料； 步骤S3：获取所述光机结构的所述显示面板（10），根据所述显示面板（10）上的多个所述像素（20）的高度、多个所述像素（20）之间的间隙大小和多个所述像素（20）与所述显示面板（10）的边缘的尺寸得到所述反射层（31）的尺寸； 步骤S4：采用沉积或者涂布的图形化工艺在所述显示面板（10）具有所述像素（20）的一侧表面上生成所述反射层（31）； 步骤S5：采用沉积或者涂布的图形化工艺在所述反射层（31）远离所述显示面板（10）的一侧表面上生成所述吸光层（32）。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人舜宇奥来半导体光电(上海)有限公司，其通讯地址为：200120 上海市浦东新区康威路299号3楼8011号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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