中核四0四有限公司吴鑫祥获国家专利权
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龙图腾网获悉中核四0四有限公司申请的专利一种用于涂层石墨坩埚复用的涂层修复方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116179993B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211669134.3，技术领域涉及：C23C4/134；该发明授权一种用于涂层石墨坩埚复用的涂层修复方法是由吴鑫祥;陈义武;周利华;华强;张会焱;王悦;王刚;杜昊设计研发完成，并于2022-12-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于涂层石墨坩埚复用的涂层修复方法在说明书摘要公布了：本发明属于复合涂层制备技术领域，具体涉及一种用于涂层石墨坩埚复用的涂层修复方法。本发明将等离子体喷涂后的片层结构进行激光重熔，降低涂层表面的孔隙率，激光熔覆后的涂层面再经过真空热压，热压后的涂层内部的孔隙大大减少，同时涂层与基体、涂层与涂层间形成冶金结合，激光熔覆和真空热压对涂层均有致密化作用，能大大提高现有等离子体喷涂涂层的各项性能。
本发明授权一种用于涂层石墨坩埚复用的涂层修复方法在权利要求书中公布了：1.一种用于涂层石墨坩埚复用的涂层修复方法，其特征在于：包括以下步骤： （1）对于石墨坩埚表面进行等离子体喷涂制备复合涂层，复合涂层包括MoY2O3、NbZrO2、NbY2O3中的一种或多种，基材预热温度50-300℃，功率30kW；送粉量1.35kgh，喷涂距离10-20cm，走枪速度6mms； （2）将等离子体喷涂后的片层结构进行激光重熔，在石墨坩埚直角过渡处安装防裂板，降低涂层表面的孔隙率，激光熔覆工艺参数为：激光功率：255W；光斑尺寸：1-2mm；扫描速度：46mms；焦距：330mm；搭接率：50%； （3）对激光熔覆后的涂层进行真空热压；真空热压工艺参数为：采用真空烧结炉真空度控制在Pa量级，压力设定在100kPa-6MPa。
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