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龙图腾网获悉中国人民解放军军事科学院国防科技创新研究院申请的专利一种水下轻质耐压吸声型格栅阵列结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115641829B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211245180.0，技术领域涉及：G10K11/16；该发明授权一种水下轻质耐压吸声型格栅阵列结构是由周晓松;邹春荣;郭少军;沈同圣;赵德鑫设计研发完成，并于2022-10-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种水下轻质耐压吸声型格栅阵列结构在说明书摘要公布了：本发明属于水下轻质耐压吸声结构技术领域，尤其涉及一种水下轻质耐压吸声型格栅阵列结构。包括阵列框架以及吸声单元阵列；阵列框架由表层面板和阵列框架构成；表层面板包括平行正对设置的上面板和下面板以及四周的侧板；阵列框架包括垂直设置的若干栅板；栅板将表层面板内腔分割形成若干安装腔；吸声单元阵列包括依次设置于各安装腔21内的吸声单元；吸声单元包括包覆层、吸声芯层以及设置于吸声芯层内的质量分配结构；本发明结构简单，具有良好的力学性能和声学性能；本申请的栅阵列结构整体厚度小，轻便耐压，应用方便，具有良好的水下承压能力和声隐能力。

本发明授权一种水下轻质耐压吸声型格栅阵列结构在权利要求书中公布了：1.一种水下轻质耐压吸声型格栅阵列结构，其特征在于，包括阵列框架以及吸声单元阵列； 所述阵列框架由表层面板（1）和阵列框架（2）构成； 表层面板（1）包括平行正对设置的上面板（10）和下面板（11）以及四周的侧板（12）；阵列框架（2）包括垂直设置的若干栅板（20）；栅板（20）将表层面板（1）内腔分割形成若干安装腔（21）； 所述吸声单元阵列包括依次设置于各安装腔（21）内的吸声单元； 所述吸声单元包括包覆层、吸声芯层（4）以及设置于吸声芯层（4）内的质量分配结构； 吸声芯层（4）充满安装腔（21），包覆层设置于吸声芯层（4）与安装腔（21）内壁之间；吸声芯层（4）内均匀设置有若干塔型吸声腔；塔型吸声腔由沿竖向同轴设置的三个组合腔构成；所述组合腔由顶部的柱形空腔（40）和底部的锥台空腔（41）构成； 柱形空腔（40）的直径与锥台空腔（41）的锥顶直径一致；相邻组合腔利用柱形空腔（40）相连通；柱形空腔（40）顶部的包覆层的厚度不小于2mm；组合腔底部的锥台空腔（41）的锥底从吸声芯层（4）底部穿出形成透声口（41a）； 质量分配结构由内环（30）、外环（31）、游离环（32）构成； 内环（30）和外环（31）设置于相邻的两个组合腔之间；内环（30）的内径与其下侧相邻的柱形空腔（40）的直径一致且正对设置；内环（30）的外径小于其上侧相邻的锥台空腔（41）的锥底直径；外环（31）的内径与其上侧相邻的锥台空腔（41）的锥底直径一致且正对设置；游离环（32）均匀布置在各外环（31）之间。

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