日本发条株式会社千田隆広获国家专利权
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龙图腾网获悉日本发条株式会社申请的专利一种磁盘装置用悬架的制造方法和制造装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115995239B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211243014.7，技术领域涉及：G11B5/48；该发明授权一种磁盘装置用悬架的制造方法和制造装置是由千田隆広;入内嶌修;住吉纯治设计研发完成，并于2022-10-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种磁盘装置用悬架的制造方法和制造装置在说明书摘要公布了：在根据一个实施例的磁盘装置用悬架的制造方法中，通过将第1激光照射至悬架的挠曲件的外伸支架来确定使外伸支架在厚度方向上弯曲以形成弯曲部的第1位置，当外伸支架在第1位置处形成弯曲部时，计算出挠曲件上的舌形件的俯仰角和滚动角的预测值，确定使预测值接近预先设定的目标值的用第2激光施加到外伸支架的第2位置，在对第1位置进行第1激光照射形成弯曲部的同时，对第2位置进行第2激光照射。
本发明授权一种磁盘装置用悬架的制造方法和制造装置在权利要求书中公布了：1.一种制造方法，所述制造方法是一种包括具有凹坑的负载梁、与所述凹坑相对的舌形件、和含有与所述舌形件相连的外伸支架的挠曲件的磁盘装置用悬架的制造方法， 通过将第1激光施加到所述外伸支架上，确定使所述外伸支架在厚度方向上弯曲形成弯曲部的第1位置， 当所述外伸支架在所述第1位置处形成所述弯曲部时，计算出所述舌形件的俯仰角和滚动角的预测值， 为了使所述预测值接近预先设定的目标值，在通过所述第1激光的照射形成所述弯曲部之前，确定第2激光施加到所述外伸支架的第2位置， 在对所述第1位置进行所述第1激光照射形成所述弯曲部的同时，对所述第2位置进行第2激光照射。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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