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龙图腾网获悉深圳博升光电科技有限公司申请的专利零级光强可调的二维分束衍射光栅制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115185028B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210880718.9，技术领域涉及：G02B5/18；该发明授权零级光强可调的二维分束衍射光栅制备方法是由吴辰阳;黄选纶;王嘉星设计研发完成，并于2022-07-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本零级光强可调的二维分束衍射光栅制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种零级光强可调的二维分束衍射光栅制备方法，根据最小化后的代价函数优化二元相位差值以及相位变化点的空间调制坐标；根据所述优化得到的二元相位差值以及相位变化点的空间调制坐标，获得衍射光栅结构参数和刻蚀深度，并且生成光刻掩模版；根据所述光刻掩模版对衬底进行微纳加工，获得二维分束衍射光栅元件。本发明通过优化二元相位差值以及相位变化点的空间调制坐标，实现对特定衍射级光强的控制，并通过加工刻蚀深度的变化实现了对零级衍射级强度的控制，进而实现衍射点阵图案的变化，从而克服了达曼光栅在实际应用中0级衍射级光强过大的问题，并可根据实际需要构造所需等强度均匀点阵的分布，进一步拓展了其在多领域的应用。

本发明授权零级光强可调的二维分束衍射光栅制备方法在权利要求书中公布了：1.一种零级光强可调的二维分束衍射光栅制备方法，其特征在于，该方法包括： 根据最小化后的代价函数优化二元相位差值初始解以及相位变化点的空间调制坐标； 根据所述优化得到的二元相位差值以及相位变化点的空间调制坐标，获得衍射光栅结构参数和刻蚀深度，并且生成光刻掩模版； 根据所述光刻掩模版对衬底进行微纳加工，获得二维分束衍射光栅元件； 所述根据最小化后的代价函数优化二元相位差值初始解以及相位变化点的空间调制坐标，具体为：设定初始温度T＝T0，随机生成归一化相位变化点空间调制坐标初始解x、0＜x＜1以及二元相位差值初始解 计算代价函数设置每个T值的迭代次数L，令T＝kT，0＜k＜1，k表示温度下降速率；对当前解x和施加随机扰动，在其邻域产生新解：x_new＝x+Δx，计算新解代价函数值计算目标函数值增量若Δcost0则接受x_new和作为新的当前解，否则以概率exp-ΔcostkT判断是否接受x_new和作为新的当前解；在温度T下，重复L次扰动和接受过程；如果温度T达到终止温度水平，则终止算法，获得优化后的二元相位差值以及相位变化点的空间调制坐标； 所述代价函数根据实际所需光斑阵列衍射级次，结合衍射效率和衍射级均匀性误差构建； 以目标最小化衍射级为±p和±q级为例，代价函数表述为： 其中Ik′为目标最小化衍射级远场光强分布±p和±q级，Ik为不包括目标最小化衍射级在内的第k衍射级远场光强分布，范围为-n到n，不包含±p和±q，N不包括目标最小化衍射级在内的衍射级数之和，η为目标总衍射效率。

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