成都虹跃科技有限公司王伟获国家专利权
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龙图腾网获悉成都虹跃科技有限公司申请的专利超精密全口径抛光机气浮转台静态位置测量装置及方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115265374B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210866145.4,技术领域涉及:G01B11/02;该发明授权超精密全口径抛光机气浮转台静态位置测量装置及方法是由王伟;安磊设计研发完成,并于2022-07-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本超精密全口径抛光机气浮转台静态位置测量装置及方法在说明书摘要公布了:本发明公开了超精密全口径抛光机气浮转台静态位置测量装置及方法,包括支撑气膜、大理石抛光转台、修正盘、工件盘、激光位移传感器、传感器夹具、数据采集卡、高精度平晶、便携式电脑、供气系统、梁和基台;支撑气膜位于大理石抛光转台和基台之间,供气系统为支撑气膜供气,修正盘、工件盘、高精度平晶和梁均位于大理石抛光转台上,工件放置在工件盘上。传感器夹具安装在梁上,激光位移传感器与传感器夹具固连,并与数据采集卡电连接,数据采集卡与便携式电脑电连接,激光位移传感器检测高精度平晶的数据后,通过数据采集卡传递到便携式电脑中。使用三点测量法测试气膜厚度,解决了大型气浮转台静态位置测量困难的问题。
本发明授权超精密全口径抛光机气浮转台静态位置测量装置及方法在权利要求书中公布了:1.超精密全口径抛光机气浮转台静态位置测量方法,其特征在于:利用超精密全口径抛光机气浮转台静态位置测量装置,精密全口径抛光机气浮转台静态位置测量装置包括支撑气膜(1)、大理石抛光转台(2)、修正盘(3)、工件盘(4)、激光位移传感器(5)、传感器夹具(6)、数据采集卡(7)、高精度平晶(8)、便携式电脑(9)、供气系统(10)、梁(11)和基台(12);支撑气膜(1)位于大理石抛光转台(2)和基台(12)之间,供气系统(10)为支撑气膜(1)供气,修正盘(3)、工件盘(4)、高精度平晶(8)和梁(11)均位于大理石抛光转台(2)上,工件放置在工件盘(4)上;传感器夹具(6)安装在梁(11)上,激光位移传感器(5)与传感器夹具(6)固连,并与数据采集卡(7)电连接,数据采集卡(7)与便携式电脑(9)电连接,激光位移传感器(5)检测高精度平晶(8)的数据后,通过数据采集卡(7)传递到便携式电脑(9)中; 超精密全口径抛光机气浮转台静态位置的测量方法,包括以下步骤: S1、在气浮转台不工作的情况下,即供气系统(10)的供气压力为零,分别将三个激光位移传感器(5)通过传感器夹具(6)吸附在大理石抛光转台(2)的三根梁(11)上,将每根梁(11)作为测量轴; S2、调节激光位移传感器(5)与高精度平晶(8)的位置关系; S3、在测量轴上安装激光位移传感器(5); S4、运行超精密全口径抛光机气浮转台静态位置测量装置,获得测量数据; 所述步骤S2中,激光位移传感器(5)的探头对准下方水平放置的高精度平晶(8),高精度平晶(8)的数量为三个,高精度平晶(8)中心对应下方点位,下方三点位位于同一圆上,三点之间的角度与三根梁(11)角度近似; 所述步骤S3还包括以下分步骤: S31、在第一根测量轴上2.3m直径位置安装一个传感器,通过卡尺对心测量一个2.3m位置点,标记,传感器测量点对齐后固定; S32、根据现场测量合适角度,顺时针转125度,在第二根测量轴上2.3m直径位置安装二号传感器,并将二号传感器测量点对齐与旋转过来的标记点;顺时针旋转110度,在第三根测量轴上2.3m直径位置安装三号传感器,并将三号传感器测量点对齐旋转过来的标记点; 所述步骤S4还包括以下分步骤: S41、打开供气系统(10),在基台(12)和大理石抛光转台(2)间形成支撑气膜(1),将大理石抛光转台(2)浮起,在工件盘(4)安装工件; S42、有气压时放下修正盘(3),之后放干净气体,归零三个激光位移传感器(5),将供气压力为零时平面设定为参考0位置基准面; S43、改变供气压力分别为0.25MPa到0.75MPa,0.5MPa到0.5MPa,0.75MPa到0.25MPa,反复重复多次,测试不同供气压力时三点的数值为空间Z坐标值,由于高精度平晶(8)的位置定好之后不再改变,故X,Y坐标已确定;查看传感器参数,传感器数值即表示不同点位的气膜厚度,不同情况差值即表示气膜厚度变化量; S44、找到每组数据组成的圆的圆心,算出空间圆面的法向量,求出法向量和Z坐标轴向量(0,0,1)夹角即为转台偏角; S45、R已知,通过几何关系,由转台偏角计算出转台最高最低点高度;R为测距且已知; S46、空间圆即球体为被平面截取一个面所得,空间圆的方程为空间球面方程与空间平面方程联立方程组。
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