美若科技有限公司丁明辉获国家专利权
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龙图腾网获悉美若科技有限公司申请的专利一种介电常数稳定型高导热金刚石基微波衰减材料及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116426868B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210867230.2，技术领域涉及：C23C14/02；该发明授权一种介电常数稳定型高导热金刚石基微波衰减材料及其制备方法是由丁明辉;刘艳青;王凯;秦静设计研发完成，并于2022-07-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种介电常数稳定型高导热金刚石基微波衰减材料及其制备方法在说明书摘要公布了：本申请提供一种介电常数稳定型高导热金刚石基微波衰减材料及其制备方法，涉及微波衰减材料制备技术领域。该制备方法包括：在精抛处理的石墨基片表面镀覆合金衬底，用化学气相沉积法在所述合金衬底上沉积掺硼金刚石膜，得到复合片；采用慢速伺服磨削技术去除所述复合片的石墨基片，用软金属抛光装置去除所述复合片的残余石墨基片和合金衬底，用自动研磨装置对所述掺硼金刚石膜的沉积表面进行抛光，得到所述高导热金刚石基微波衰减材料。该制备方法具有显微组织结构控制精度高、工艺稳定性和重复性强等优点，可实现金刚石基微波衰减材料的高效制备。
本发明授权一种介电常数稳定型高导热金刚石基微波衰减材料及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种介电常数稳定型高导热金刚石基微波衰减材料的制备方法，其特征在于，包括： 在精抛处理的石墨基片表面镀覆合金衬底，用化学气相沉积法在所述合金衬底上沉积掺硼金刚石膜，得到复合片； 采用慢速伺服磨削技术去除所述复合片的石墨基片，用软金属抛光装置去除所述复合片的残余石墨基片和合金衬底，用自动研磨装置对所述掺硼金刚石膜的沉积表面进行抛光，得到所述高导热金刚石基微波衰减材料。
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