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龙图腾网获悉细美事有限公司申请的专利用于处理基板的装置和用于处理基板的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115513031B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210724677.4，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权用于处理基板的装置和用于处理基板的方法是由洪镇熙;崔圣慜;金润相;全珉星;全瑛恩;张东荣设计研发完成，并于2022-06-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于处理基板的装置和用于处理基板的方法在说明书摘要公布了：本发明涉及用于处理基板的装置和用于处理基板的方法。基板处理装置包括：腔室，其提供处理空间；支承单元，其在处理空间处支承基板；气体供应单元，其被配置为将气体引入到处理空间；等离子体源，其被配置为提供用于将引入到处理空间的气体激发成等离子体的能量；排放单元，其被配置为将处理空间内的气氛排放到处理空间的外侧；以及加热源，其定位在支承单元的上方，并且其中，加热源将加热能量以脉冲形式施加到基板。

本发明授权用于处理基板的装置和用于处理基板的方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，所述基板处理装置包括： 腔室，所述腔室提供处理空间； 支承单元，所述支承单元在所述处理空间处支承基板； 气体供应单元，所述气体供应单元被配置为将气体引入到所述处理空间； 等离子体源，所述等离子体源被配置为提供用于将引入到所述处理空间的气体激发成等离子体的能量； 排放单元，所述排放单元被配置为将所述处理空间内的气氛排放到所述处理空间的外侧；以及 加热源，所述加热源定位在所述支承单元的上方，并且 其中，所述加热源将加热能量以脉冲形式施加到所述基板； 其中，所述等离子体源包括： 顶部电极，所述顶部电极包括传输光或微波的第一板、和堆叠在所述第一板处的透明导电膜； 底部电极，所述底部电极设置在所述基板的下方；以及 高频电源，所述高频电源将高频功率施加到所述顶部电极或所述底部电极中的至少一者，并且 其中，所述加热源设置在所述顶部电极的上方； 所述基板处理装置还包括控制器，并且 其中，所述控制器被配置为执行： 第一步骤，所述第一步骤为控制所述气体供应单元将第一工艺气体引入到所述处理空间，并且控制所述等离子体源将已经被引入的所述第一工艺气体激发成等离子体以处理所述基板； 第二步骤，所述第二步骤为控制所述气体供应单元将吹扫气体引入到所述处理空间，并且控制所述排放单元对所述处理空间进行排放； 第三步骤，所述第三步骤为控制所述气体供应单元将第二工艺气体引入到所述处理空间，控制所述等离子体源将已经被引入的所述第二工艺气体激发成所述等离子体，并且控制所述加热源以脉冲施加所述加热能量来处理所述基板；以及 第四步骤，所述第四步骤为控制所述气体供应单元将所述吹扫气体引入到所述处理空间，并且控制所述排放单元对所述处理空间进行排放，并且 其中，所述第一步骤至所述第四步骤被控制为依序重复多次。

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