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龙图腾网获悉大日本印刷株式会社申请的专利掩模的制造方法和掩模获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115572942B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210702316.X，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权掩模的制造方法和掩模是由田中成美;池永知加雄设计研发完成，并于2022-06-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本掩模的制造方法和掩模在说明书摘要公布了：本发明涉及掩模的制造方法和掩模。掩模可以具备：在第1方向上相向的第1端部和第2端部；和位于第1端部与第2端部之间并包含贯通孔组的中间部。掩模的制造方法可以具备：中间部形成步骤，在基材形成中间部的外缘和贯通孔组；第1端部形成步骤，在基材形成第1端部的外缘；和第2端部形成步骤，在基材形成第2端部的外缘。中间部形成步骤可以包含：使用第1曝光掩模将基材上的抗蚀剂层曝光的工艺；和经由被曝光和显影的抗蚀剂层对基材进行蚀刻的工艺。第1端部形成步骤可以包含：使用第2曝光掩模将基材上的抗蚀剂层曝光的工艺；和经由被曝光和显影的上述抗蚀剂层对基材进行蚀刻的工艺。或者，第1端部形成步骤可以包含使用激光加工基材的工艺。

本发明授权掩模的制造方法和掩模在权利要求书中公布了：1.一种制造方法，其为掩模的制造方法，其中， 所述掩模具备：在第1方向上相向的第1端部和第2端部；和位于所述第1端部与第2端部之间并包含贯通孔组的中间部， 所述制造方法具备： 中间部形成步骤，在原始基材形成所述中间部的外缘和所述贯通孔组； 第1端部形成步骤，在所述原始基材形成所述第1端部的外缘；和 第2端部形成步骤，在所述原始基材形成所述第2端部的外缘， 通过所述中间部形成步骤、所述第1端部形成步骤以及所述第2端部形成步骤，形成了第1台阶部，所述第1台阶部位于所述第1端部与所述中间部的边界并在与所述第1方向正交的第2方向上位移， 所述第2方向上的所述第1台阶部的尺寸为1mm以下， 所述中间部形成步骤包含：使用第1曝光掩模将所述原始基材上的抗蚀剂层曝光的工艺；和经由被曝光和显影的所述抗蚀剂层对所述原始基材进行蚀刻的工艺， 所述第1端部形成步骤包含：使用第2曝光掩模将所述原始基材上的抗蚀剂层曝光的工艺；和经由被曝光和显影的所述抗蚀剂层对所述原始基材进行蚀刻的工艺， 所述第2端部形成步骤包含：使用第3曝光掩模将所述原始基材上的抗蚀剂层曝光的工艺；和经由被曝光和显影的所述抗蚀剂层对所述原始基材进行蚀刻的工艺， 对使用所述第1曝光掩模曝光的所述原始基材上的所述抗蚀剂层、使用所述第2曝光掩模曝光的所述原始基材上的所述抗蚀剂层、以及使用所述第3曝光掩模曝光的所述原始基材上的所述抗蚀剂层同时进行显影处理。

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