光驰科技(上海)有限公司李卫涛获国家专利权
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龙图腾网获悉光驰科技(上海)有限公司申请的专利一种膜系结构及其制作方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116990887B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210449056.X，技术领域涉及：G02B1/10；该发明授权一种膜系结构及其制作方法是由李卫涛设计研发完成，并于2022-04-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种膜系结构及其制作方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种膜系结构及其制作方法。该膜系结构为：Sub|HL^a2H^bLH^c2L^d^eHL^a2H^bLH^cfL|Air；其中，Sub为基板，Air为出射介质空气，H为14中心波长光学厚度的高折射率材料，L为14中心波长光学厚度的低折射率材料，a、b、c、d、e、f均为正整数；其中，HL^a表示依次沉积H膜层和L膜层并重复a次；2H^b表示依次沉积H膜层和H膜层并重复b次；LH^c表示依次沉积L膜层和H膜层并重复c次；2L^d表示依次沉积L膜层和L膜层并重复d次；HL^a2H^bLH^c2L^d^e表示膜堆HL^a2H^bLH^c2L^d重复e次；fL表示L膜层重复f次。本发明实施例的技术方案能够在修正膜厚均匀性的同时，还可以用来修正高低折射率材料的光学厚度相对比例，具有准确和高效的特点。
本发明授权一种膜系结构及其制作方法在权利要求书中公布了：1.一种膜系结构，其特征在于，所述膜系结构为： Sub|HL^a2H^bLH^c2L^d^eHL^a2H^bLH^cfL|Air； 其中，Sub为基板，Air为出射介质空气，H为14中心波长光学厚度的高折射率材料，L为14中心波长光学厚度的低折射率材料，a、b、c、d、e、f均为正整数； 其中，HL^a表示依次沉积H膜层和L膜层并重复a次；2H^b表示依次沉积H膜层和H膜层并重复b次；LH^c表示依次沉积L膜层和H膜层并重复c次；2L^d表示依次沉积L膜层和L膜层并重复d次；HL^a2H^bLH^c2L^d^e表示膜堆HL^a2H^bLH^c2L^d重复e次；fL表示L膜层重复f次； 其中，1≤a≤5，1≤c≤5； 1≤b≤2，1≤d≤2，1≤e≤2，1≤f≤2。
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