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龙图腾网获悉河南镀邦光电股份有限公司申请的专利一种盖板超低应力复合色薄膜及其镀膜工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116043163B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210301989.4，技术领域涉及：C23C14/08；该发明授权一种盖板超低应力复合色薄膜及其镀膜工艺是由李智超;毕文江;孙波;赵松;徐光科;冯志宏设计研发完成，并于2022-03-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种盖板超低应力复合色薄膜及其镀膜工艺在说明书摘要公布了：本发明涉及光学薄膜技术领域，提出一种盖板超低应力复合色薄膜及其镀膜工艺。包括基材，其中，在所述基材表面镀制膜层，所述膜层采用SiO2和Al2O3的低折射率材料，Ta2O5、Nb2O5、Ti3O5的高折射率材料的交替循环结构，膜层共9层。与现有技术相比，本发明中玻璃表面膜层厚度均匀较薄，监控方便，膜层在白片基材面，颜色蓝色，在终端严格的测试标准中能稳定合格，极限测试产品在60cm高度跌落测试外观无变化、无腐蚀、变色、起泡、开裂、膜层脱落等异常现象，另外本发明采用的膜层材料常见，内应力超低、附着力强、耐磨损、耐汗液，耐酸碱腐蚀，耐钢丝绒摩擦，耐橡皮摩擦，耐振动摩擦等性能。

本发明授权一种盖板超低应力复合色薄膜及其镀膜工艺在权利要求书中公布了：1.一种盖板超低应力复合色薄膜的镀膜工艺，其特征在于，包括基材，以及镀制在基材表面的薄膜；镀膜设备为离子束辅助沉积设备，单枪低温镀膜；所述基材选择BK7玻璃，折射率在1.52；所述薄膜膜系结构如下：HLHLHLHML，所述H为高折射率材料Ta2O5或Nb2O5或Ti3O5，所述L为低折射率材料SiO2，M为Al2O3；每层低折射率薄膜厚度为10nm-100nm，每层高折射率薄膜厚度为5nm-50nm，Al2O3薄膜厚度为10nm-50nm；所述高折射率材料成膜时，射频源充入氧气：氩气体积占比5：1或者6：1的气体，氩气流量在8-25sccm，氧气流量在80-110sccm，其中射频电流在800-1200mA，电压在1000-1400V，镀膜速率3-4速率3Ås；低折射率材料成膜时，射频源充入氧气：氩气体积占比在4：1或者5：2的气体，氩气流量在5-15sccm，氧气流量在10-50sccm，其中射频电流在800-1200mA，电压在800-1300V，镀膜速率控制在4-8Ås；Al2O3膜层在镀膜过程中采用低温离子辅助沉积，速率3Ås。

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