东京毅力科创株式会社佐佐木信峰获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理装置和中继构件的驱动方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114068280B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110851982.5，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权基板处理装置和中继构件的驱动方法是由佐佐木信峰;松浦伸设计研发完成，并于2021-07-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理装置和中继构件的驱动方法在说明书摘要公布了：本发明提供在驱动部位也能够准确地测量压力的基板处理装置和中继构件的驱动方法。基板处理装置具有腔室、屏蔽构件以及中继构件。腔室具有利用导入的气体执行对基板的处理的处理室和对处理室内的气体进行排气的排气室。屏蔽构件设于腔室的侧壁附近的至少局部，屏蔽构件将处理室与排气室隔开，并且在屏蔽构件的与腔室的侧壁平行的壁面的局部具有连通处理室和排气室的孔，屏蔽构件能够在上下方向上驱动。中继构件为中空，中继构件与连接于腔室的外部的计量仪器的配管连接，中继构件能够在水平方向上驱动，在屏蔽构件到达了上端时，中继构件被向腔室的中心方向驱动，从而中继构件的中心方向侧的端部与屏蔽构件连接，并且借助孔连通处理室和配管。
本发明授权基板处理装置和中继构件的驱动方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，其中， 该基板处理装置具有： 腔室，其具有利用导入的气体执行对基板的处理的处理室和对所述处理室内的气体进行排气的排气室； 屏蔽构件，其设于所述腔室的侧壁附近的至少局部，该屏蔽构件将所述处理室与所述排气室隔开，并且在该屏蔽构件的与所述腔室的侧壁平行的壁面的局部具有连通所述处理室和所述排气室的孔，该屏蔽构件能够在上下方向上驱动；以及 中空的中继构件，其与连接于所述腔室的外部的计量仪器的配管连接，该中继构件能够在水平方向上驱动，在所述屏蔽构件到达了上端时，该中继构件被向所述腔室的中心方向驱动，从而该中继构件的所述中心方向侧的端部与所述屏蔽构件连接，并且借助所述孔连通所述处理室和所述配管。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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