上海微电子装备(集团)股份有限公司郭银章获国家专利权
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龙图腾网获悉上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利投影光刻物镜及光刻机获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115542675B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110739484.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权投影光刻物镜及光刻机是由郭银章设计研发完成，并于2021-06-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本投影光刻物镜及光刻机在说明书摘要公布了：本发明提供一种投影光刻物镜及光刻机。其中，投影光刻物镜的第一镜组中的第一负透镜和第一正透镜形成了密接双分离式透镜组，以实现场曲像散矫正。第五镜组中第三正透镜、第二负透镜和第四正透镜形成了密接三分离形式透镜组，以实现色差矫正。第二镜组、第三镜组、第四镜组和第五镜组中均包括至少一个非球面。因非球面相比于球面增加了优化的自由度，则一片非球面原理上可以代替2‑3片球面镜片效果，故在调整像差上，可以大幅度压缩镜头尺寸、减少镜片数量和降低结构的复杂度，同时还可以增大视场，提高透过率。因此，本发明能在增大视场的前提下，提高成像质量，以实现同时提高光刻精度和产量，并且还减少了镜片的数量，降低成本。
本发明授权投影光刻物镜及光刻机在权利要求书中公布了：1.一种投影光刻物镜，其特征在于，包括：沿光路依次设置的第一镜组、第二镜组、第三镜组、第四镜组、第五镜组以及第六镜组； 所述第一镜组包括沿光路依次设置的第一负透镜和第一正透镜，且所述第一负透镜靠近物面的一侧呈非球面； 所述第五镜组包括沿光路依次设置的第二正透镜、孔径光阑、第三正透镜、第二负透镜和第四正透镜； 所述第三镜组中的透镜均为正透镜；所述第二镜组、所述第四镜组和所述第六镜组中的透镜均为负透镜； 其中，所述第二镜组、所述第三镜组、所述第四镜组和第五镜组中均包括至少一个呈非球面的透镜。
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