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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利真空处理装置和真空处理装置的控制方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113903697B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110728639.1，技术领域涉及：H01L21/683；该发明授权真空处理装置和真空处理装置的控制方法是由森淳设计研发完成，并于2021-06-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本真空处理装置和真空处理装置的控制方法在说明书摘要公布了：本发明提供真空处理装置和真空处理装置的控制方法。改善由处理容器的变形引起的载置台的位置和倾斜度的偏离。真空处理装置具有：处理容器，其能够将其内部维持为真空气氛；载置台，其设于处理容器内，用于载置基板；支承构件，其贯穿处理容器的底部的孔而自下方支承载置台；基体构件，其与支承构件的位于处理容器的外部的端部卡合，该基体构件能够与载置台一体地移动；以及多个致动器，它们在处理容器的底部与基体构件之间互相排列地设置，该多个致动器使基体构件相对于处理容器的底部相对地移动，从而调整载置台的位置和倾斜度。

本发明授权真空处理装置和真空处理装置的控制方法在权利要求书中公布了：1.一种真空处理装置，其中， 该真空处理装置具有： 处理容器，其能够将其内部维持为真空气氛； 载置台，其设于所述处理容器内，用于载置基板； 支承构件，其贯穿所述处理容器的底部的孔而自下方支承所述载置台； 基体构件，其与所述支承构件的位于所述处理容器的外部的部分卡合，该基体构件能够与所述载置台一体地移动；以及 多个致动器，它们在所述处理容器的底部与所述基体构件之间互相排列地设置，该多个致动器使所述基体构件相对于所述处理容器的底部相对地移动，从而调整所述载置台的位置和倾斜度， 其中，该真空处理装置还具有吸收机构，该吸收机构吸收所述处理容器的底部的变形， 所述多个致动器与所述吸收机构连结， 其中，所述吸收机构具有： 板构件；以及 杆构件，该杆构件的一端与所述处理容器的底部连结，并且该杆构件的另一端与所述板构件连结，该杆构件抑制所述变形向所述板构件的传递， 所述多个致动器与所述板构件连结， 其中，所述杆构件的所述一端以能够旋转滑动的方式与所述处理容器的底部连结，以及或者所述杆构件的所述另一端以能够旋转滑动的方式与所述板构件连结， 所述杆构件向与所述处理容器的底部的变形对应的方向旋转。

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