应用材料股份有限公司摩根·艾文斯获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料股份有限公司申请的专利形成光学器件的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115427845B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180029083.5，技术领域涉及：G02B5/18；该发明授权形成光学器件的方法是由摩根·艾文斯;约瑟·C·欧尔森;鲁格·迈尔提摩曼提森;丹尼尔·迪斯塔苏;莱恩·柏亚斯设计研发完成，并于2021-04-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本形成光学器件的方法在说明书摘要公布了：提供形成光学器件的方法。在一个实例中，一种方法可包括在衬底的顶上提供掩模层，掩模层包括位于第一处理区域之上的第一开口及位于第二处理区域之上的第二开口。所述方法可还包括：刻蚀衬底，以使第一处理区域及第二处理区域凹陷；在衬底之上形成光栅材料；以及在第一处理区域及第二处理区域中刻蚀光栅材料，以形成相对于从衬底的顶表面延伸的垂线被定向成非零角度的多个结构。
本发明授权形成光学器件的方法在权利要求书中公布了：1.一种形成光学器件的方法，包括： 在衬底的顶上提供掩模层，所述掩模层包括位于第一处理区域之上的第一开口及位于第二处理区域之上的第二开口； 刻蚀所述衬底，以形成具有第一深度的所述第一处理区域和具有不同于所述第一深度的第二深度的所述第二处理区域； 在形成有所述第一处理区域和所述第二处理区域的所述衬底之上形成光栅材料；以及 在所述第一处理区域及所述第二处理区域中刻蚀所述光栅材料，以形成相对于从所述衬底的顶表面延伸的垂线被定向成非零角度的多个结构。
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