北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司梅文海获国家专利权
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龙图腾网获悉北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司申请的专利电子设备基板及其制造方法和电子设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114792764B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110107096.1，技术领域涉及：H10K71/00；该发明授权电子设备基板及其制造方法和电子设备是由梅文海设计研发完成，并于2021-01-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本电子设备基板及其制造方法和电子设备在说明书摘要公布了：本公开提供一种电子设备基板，所述电子设备基板包括衬底基板和形成在所述衬底基板上的量子点图形层，其中，所述量子点图形层包括至少一个量子点图形，所述量子点图形包括基体和分散在所述基体中的量子点，所述基体包括主基体部和形成在所述主基体部上的修复基体部，所述修复基体部的材料分子与所述主基体部的材料分子之间互相结合。本公开还提供一种电子设备、一种电子设备基板的制造方法。
本发明授权电子设备基板及其制造方法和电子设备在权利要求书中公布了：1.一种电子设备基板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括： 提供衬底基板； 形成牺牲层； 形成光刻胶层； 对所述光刻胶层和所述牺牲层进行构图工艺，以形成图形开口，其中，所述图形开口贯穿所述光刻胶层和所述牺牲层； 在所述图形开口中形成初始量子点图形层，所述初始量子点图形层包括至少一个初始量子点图形，所述量子点图形包括主基体部和分散在所述主基体部中的量子点； 通过超声振动去除所述牺牲层、以及形成在所述牺牲层上的材料层； 在所述初始量子点图形层上涂敷修复材料液； 对涂敷有修复材料液的初始量子点图形层进行加热，使得所述修复材料液固化，并获得最终量子点图形层，所述最终量子点图形包括由所述初始量子点图形获得的最终量子点图形，所述最终量子点图形包括基体和分散在所述基体中的量子点，所述基体包括主基体部和形成在所述主基体部上的、由所述修复材料液形成的修复基体部，所述修复基体部的材料分子与所述主基体部的材料分子之间互相结合。
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