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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理装置、基板处理方法和化学溶液获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113161259B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110030540.4，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权基板处理装置、基板处理方法和化学溶液是由坂崎哲也;小杉仁设计研发完成，并于2021-01-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本基板处理装置、基板处理方法和化学溶液在说明书摘要公布了：[课题]提供：可以抑制蚀刻后的金属膜的表面粗糙的基板处理装置、基板处理方法和化学溶液。[解决方案]基板处理装置具备：基板旋转部，其保持在表面形成有金属的膜的基板并使其旋转；第1供给部，其向前述基板供给包含螯合剂和溶剂的第1处理液；第2供给部，其向前述基板供给包含水的第2处理液；和，控制部，其用于控制前述基板旋转部、前述第1供给部和前述第2供给部，前述控制部边通过前述基板旋转部使前述基板旋转，边通过前述第1供给部向前述基板供给前述第1处理液并生成包含前述金属和前述螯合剂的络合物，在生成前述络合物后，通过前述第2供给部向前述基板供给前述第2处理液并使前述络合物溶解于前述第2处理液。

本发明授权基板处理装置、基板处理方法和化学溶液在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，其具备： 基板旋转部，其保持在表面形成有金属的膜的基板并使其旋转； 第1供给部，其向所述基板供给包含螯合剂和溶剂的第1处理液； 第2供给部，其向所述基板供给包含水的第2处理液；和， 控制部，其用于控制所述基板旋转部、所述第1供给部和所述第2供给部， 所述控制部边通过所述基板旋转部使所述基板旋转，边通过所述第1供给部向所述基板供给所述第1处理液并生成包含所述金属和所述螯合剂的络合物， 在生成所述络合物后，通过所述第2供给部向所述基板供给所述第2处理液并使所述络合物溶解于所述第2处理液， 在所述金属的膜的表面形成有由金属原子的氧化物构成的钝化膜，在向所述基板供给所述第1处理液时，所述螯合剂的一部分附着于所述氧化物，生成包含所述氧化物和所述螯合剂的络合物， 所述基板处理装置还具备第3供给部，所述第3供给部向所述基板供给水溶性的第3处理液， 对于所述控制部，在生成所述络合物后、且供给所述第2处理液前，通过所述第3供给部向所述基板供给所述第3处理液并将残留于所述基板上的所述螯合剂去除。

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