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龙图腾网获悉上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利一种自动调焦装置、曝光装置、光刻装置及曝光方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114690581B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011632381.7，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种自动调焦装置、曝光装置、光刻装置及曝光方法是由田翠侠;夏海;张世锦;沈恬设计研发完成，并于2020-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种自动调焦装置、曝光装置、光刻装置及曝光方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种自动调焦装置、曝光装置、光刻装置及曝光方法，自动调焦装置包括运动单元、承片台、位移传感器检测装置和控制系统；承片台设置于运动单元上，承片台被配置为承载基底；运动单元被配置为带动承片台在垂直方向上做上下升降运动、以及沿承片台轴向做旋转运动；位移传感器检测装置设置于承片台上的基底的下方，其被配置为采集基底的翘曲量；控制系统被配置为根据基底的翘曲量控制运动单元带动承片台在垂直方向上做上下升降运动，以对曝光过程中的基底进行自动调焦。本发明提供的自动调焦装置可以使大翘曲片的曝光面在曝光过程中与投影物镜焦面尽可能保持重合，达到最佳的曝光性能。

本发明授权一种自动调焦装置、曝光装置、光刻装置及曝光方法在权利要求书中公布了：1.一种自动调焦装置，用于对曝光过程中的基底进行自动调焦，其特征在于，包括运动单元、承片台、位移传感器检测装置和控制系统； 所述承片台设置于所述运动单元上，所述承片台被配置为承载所述基底； 所述运动单元被配置为带动所述承片台在垂直方向上做上下升降运动、以及沿所述承片台轴向做旋转运动； 所述位移传感器检测装置设置于所述承片台上的基底的下方，其被配置为采集所述基底的翘曲量； 所述控制系统被配置为根据所述基底的翘曲量控制所述运动单元带动所述承片台在垂直方向上做上下升降运动，以对曝光过程中的所述基底进行自动调焦； 其中，所述位移传感器检测装置被配置为按照设定的采集频率测量所述基底在旋转过程中各采集点的翘曲量； 所述控制系统被配置为根据所述各采集点在所述基底上的位置坐标及各采集点对应的翘曲量拟合生成所述基底的位置-翘曲量曲线，并根据所述位置-翘曲量曲线、所述基底的曝光位置获取所述曝光位置对应的翘曲量，并得到曝光位置区域的翘曲变化量，将所述翘曲变化量插值到运动单元的设定点生成器中，由轨迹规划策略，生成运动单元每一个运动位置的设定点输入，以控制所述承片台在垂直方向上做上下升降运动，以对曝光过程中的所述基底进行自动调焦； 并且，所述运动单元还包括PID控制器和测量系统， 所述测量系统用于实时测量承片台在垂直方向上的实际上升或下降距离，并将所述实际上升或下降距离输入至PID控制器的输入端； 所述PID控制器用于根据反馈的所述实际上升或下降距离以及加速度轨迹对所述运动单元的设定点输入进行实时调整；其中，所述加速度轨迹根据所述设定点生成器规划得到。

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