上海微电子装备(集团)股份有限公司吴福龙获国家专利权
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龙图腾网获悉上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利光刻装置及其中的基底传输方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114609870B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011413536.8，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光刻装置及其中的基底传输方法是由吴福龙;阮冬设计研发完成，并于2020-12-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本光刻装置及其中的基底传输方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种光刻装置及其中的基底传输方法，所述光刻装置包括工件台以及基底传送装置，所述基底传送装置用于传送基底，所述基底传送装置包括基底传送板叉，所述基底传送板叉包括板叉臂、吸附组件以及驱动组件。所述板叉臂上设置有至少两个吸附组件，通过这种在所述板叉臂上设置多个吸附组件的结构，可在不增加板叉臂长度的基础上实现传送多块基底的功能，有效提高了光刻装置的产率。
本发明授权光刻装置及其中的基底传输方法在权利要求书中公布了：1.一种光刻装置，其特征在于，包括工件台以及基底传送装置，所述基底传送装置用于传送基底，所述基底传送装置包括基底传送板叉； 所述基底传送板叉包括板叉臂、吸附组件以及驱动组件； 所述驱动组件设置于所述板叉臂上，所述吸附组件设置于所述驱动组件上，所述吸附组件用于吸附或释放所述基底，所述驱动组件用于驱动所述吸附组件与所述基底的下表面接触以使所述吸附组件位于吸附工位或避让工位，当所述吸附组件位于所述吸附工位时，所述吸附组件吸附所述基底，当所述吸附组件位于所述避让工位时，所述吸附组件释放所述基底； 所述吸附组件的数量为至少两个，至少两个所述吸附组件间隔设置在所述板叉臂上，每个所述吸附组件或至少两个吸附组件配合以吸附或释放一个所述基底； 每个驱动组件用于分别驱动一个对应的所述吸附组件。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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