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龙图腾网获悉福建鑫骏晖印刷包装有限公司申请的专利一种轻质真空镭射膜及生产工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120287701B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510789525.6，技术领域涉及：B32B27/36；该发明授权一种轻质真空镭射膜及生产工艺是由苏文勇;王宾强;李炎坤设计研发完成，并于2025-06-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种轻质真空镭射膜及生产工艺在说明书摘要公布了：本发明公开了一种轻质真空镭射膜及生产工艺，涉及镭射膜技术领域，包括基底层；本发明通过基底层、附着增强层、真空镀金属层、高透光耐磨层与抗紫外线层，来制成轻质真空镭射膜，其中，纳米纤维素与聚乳酸共混制成的基底层具备轻质与高抗拉强度，且抗紫外线层采用氟硅树脂、聚氨酯树脂与光致变色氟碳树脂复合，可形成智能抗紫外线防护层，并提供自修改效果，而‌基材层准备、附着增强层涂布、真空镀层、热压复合、抗紫外线层涂覆与分切包装工艺的设置，可进行轻质真空镭射膜的高效制备，并且，在‌基材层准备中通过凹版涂布设备所设的组合功能装置，来满足涂布液的高效曝气混合以及多余涂布液的回收与渗入效果的加强。

本发明授权一种轻质真空镭射膜及生产工艺在权利要求书中公布了：1.一种轻质真空镭射膜，其特征在于：轻质真空镭射膜组成至下而上包括：基底层（100）、附着增强层（200）、真空镀金属层（300）、高透光耐磨层（400）与抗紫外线层（500），所述附着增强层（200）涂覆于基底层（100）上表面，所述真空镀金属层（300）采用磁控溅射镀于附着增强层（200）上表面，所述高透光耐磨层（400）热压于真空镀金属层（300）上表面，所述抗紫外线层（500）采用精密喷涂涂覆于高透光耐磨层（400）上表面； 所述基底层（100）采用纳米纤维素与聚乳酸共混制成，厚度10-15μm； 所述附着增强层（200）‌采用生物基聚乳酸与乙烯-醋酸乙烯酯共聚物的复合材料，厚度为2-4μm； 所述真空镀金属层（300）‌采用铜-银合金溅射镀膜，厚度50-80nm，通过磁控溅射技术形成； 高透光耐磨层（400）‌采用纳米二氧化硅粒子与聚碳酸酯材料复合形成； 抗紫外线层（500）‌：采用氟硅树脂、聚氨酯树脂与光致变色氟碳树脂中的一种或多种复合，厚度为1-3μm。

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