蚌埠高华电子股份有限公司程秀文获国家专利权
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龙图腾网获悉蚌埠高华电子股份有限公司申请的专利一种AG玻璃防眩层制造蚀刻浸泡装置及方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120097640B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510577643.0,技术领域涉及:C03C15/00;该发明授权一种AG玻璃防眩层制造蚀刻浸泡装置及方法是由程秀文设计研发完成,并于2025-05-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种AG玻璃防眩层制造蚀刻浸泡装置及方法在说明书摘要公布了:本发明涉及蚀刻技术领域,且公开了一种AG玻璃防眩层制造蚀刻浸泡装置及方法,包括机体和安装在机体顶部的防护外壳,所述机体的内部设有蚀刻槽和两个清洗槽,且蚀刻槽位于两个清洗槽之间;所述机体中设有可升降的稳定架,所述稳定架上放置有用于AG玻璃的放置架,通过稳定架带动放置架上的AG玻璃在蚀刻槽的蚀刻液中反复上下移动,清除表面附着的气泡。该发明采用多电场分区技术,通过交错分布的阳极电极片和阴极电极片形成独立电场,每片AG玻璃均处于专属电场区域,有效规避边缘电场衰减问题,在电场作用下,可带动离子进行迁移,提高蚀刻均匀度。
本发明授权一种AG玻璃防眩层制造蚀刻浸泡装置及方法在权利要求书中公布了:1.一种AG玻璃防眩层制造蚀刻浸泡装置,其特征在于:包括机体(1)和安装在机体(1)顶部的防护外壳(2),所述机体(1)的内部设有蚀刻槽(3)和两个清洗槽(4),且蚀刻槽(3)位于两个清洗槽(4)之间; 所述机体(1)中设有可升降的稳定架(5),所述稳定架(5)上放置有用于AG玻璃的放置架(6),通过稳定架(5)带动放置架(6)上的AG玻璃在蚀刻槽(3)的蚀刻液中反复上下移动,清除表面附着的气泡; 所述稳定架(5)上设有电场结构(7),通过电场结构(7)在蚀刻槽(3)的内部构建多个单独的电场,且放置架(6)上的各个AG玻璃置于各个局部电场中,通过局部电场带动离子进行迁移,提高蚀刻均匀度,稳定架(5)带动电场结构(7)移出蚀刻槽(3)后,电场结构(7)的阴阳电极分开并导入两个清洗槽(4)进行分开清洗; 所述电场结构(7)包括可翻转的呈交错且等距分布的阳极电极片(74)和阴极电极片(75),每个阳极电极片(74)和阴极电极片(75)之间均构成单个电场,在电场作用下,对AG玻璃进行蚀刻辅助; 所述电场结构(7)包括设置在稳定架(5)上的阳极轴杆(71)和阴极轴杆(72),所述阳极轴杆(71)和阴极轴杆(72)上交错分布安装有矩形架(73),所述阳极轴杆(71)和阴极轴杆(72)的矩形架(73)内均分别安装有阳极电极片(74)和阴极电极片(75),阳极电极片(74)和阴极电极片(75)交错且等距分布在蚀刻槽(3)内部,构成多个电场; 所述电场结构(7)还包括驱动阳极轴杆(71)和阴极轴杆(72)旋转的传动结构,通过传动结构带动阳极轴杆(71)和阴极轴杆(72)旋转,使阳极电极片(74)和阴极电极片(75)翻转分开,并导入两个清洗槽(4)进行电极清洗。
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