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龙图腾网获悉杭州北水未来科技有限公司申请的专利用于电解铜箔生产废水深度处理的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119977263B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510445617.2，技术领域涉及：C02F9/00；该发明授权用于电解铜箔生产废水深度处理的方法是由吴彩琼;杨茂东;关春雨设计研发完成，并于2025-04-10向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于电解铜箔生产废水深度处理的方法在说明书摘要公布了：本申请提供了一种用于电解铜箔生产废水深度处理的方法，涉及工业污水处理技术领域，本申请的方法包括将待处理的废水依次进行电化学氧化处理、混凝沉淀处理和折点加氯处理的步骤；电化学氧化处理具体为：将废水引入反应器，并将该工艺段废水的pH值调节至第一目标值，基于控制反应器电极的加电情况实现电化学氧化处理；混凝沉淀处理具体为：将电化学氧化反应器的出水引入混凝反应池，并将该工艺段废水的pH值调节至第二目标值，之后投加混凝剂同时进行搅拌以使反应池中发生絮凝反应，絮凝反应后的废水进入沉淀池中进行沉淀分离。本申请的技术方案，采用具体的物化处理方式，可对不具备协同处理条件的铜箔废水实现有效深度处理。

本发明授权用于电解铜箔生产废水深度处理的方法在权利要求书中公布了：1.一种用于电解铜箔生产废水深度处理的方法，其特征在于，所述方法包括将待处理的废水依次进行电化学氧化处理、混凝沉淀处理和折点加氯处理的步骤； 其中，所述电化学氧化处理在电化学氧化反应器中进行，具体为：将废水引入电化学氧化反应器，并将电化学氧化反应器内废水的pH值调节至第一目标值，基于控制反应器电极的加电情况进行电化学氧化处理； 所述混凝沉淀处理在混凝反应池及沉淀池中进行，具体为：将电化学氧化反应器的出水引入混凝反应池，并将混凝反应池内废水的pH值调节至第二目标值，之后投加混凝剂同时进行搅拌以使反应池中发生絮凝反应，絮凝反应后的废水进入沉淀池中进行沉淀分离； 其中，所述电化学氧化处理过程中，通过在线监测仪表实时获取进出水COD、氨氮及金属阳离子形态分布数据，采用分阶段差异化的控制方式控制所述反应器电极的加电情况；根据污染物降解动力学特性将电化学氧化处理过程划分为快速氧化期、稳态反应期和深度处理期三个阶段，所述采用分阶段差异化的控制方式控制所述反应器电极的加电情况，具体包括： 当检测到COD大于第一预定值时进入快速氧化期，启动脉冲式高电流密度处理并耦合间歇曝气，所述脉冲式高电流密度为30-50mAcm²，占空比30-50%，脉冲频率0.5-2Hz；当氨氮降解速率下降至初始速率的预定百分比时切换至稳态反应期，动态调节电流密度；当络合态金属占比小于第二预定值时转入深度处理期，切换为低电流密度运行，所述低电流密度为10-20mAcm²。

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