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龙图腾网获悉安徽沃壹微电子有限公司申请的专利一种压电陶瓷的单片控制方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120143768B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510304899.4，技术领域涉及：G05B19/418；该发明授权一种压电陶瓷的单片控制方法及装置是由阎世洪;阎政吉设计研发完成，并于2025-03-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种压电陶瓷的单片控制方法及装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种压电陶瓷的单片控制方法及装置，涉及单片控制技术领域，该方法包括：交互目标生产线的生产节点，采集装配元件的装配方案，获得定位偏差宽容带宽；采用视觉定位装置获得定位偏差集合和定位偏移趋势方向；进行定位偏差优化，获得定位偏差优化记录集合；对定位偏差优化记录集合进行控制响应因子拟合，生成控制响应因子；对定位偏差优化记录进行检索，获得干扰拟合因子；对控制响应因子进行修正，获得控制反馈因子，进行定位台移动。本发明解决了现有技术中控制方法精准度低，缺乏智能化使得产品装配出现偏差，从而降低了产品质量的技术问题，达到了实现高精度且智能化的定位控制，提高生产效率和产品质量的技术效果。

本发明授权一种压电陶瓷的单片控制方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种压电陶瓷的单片控制方法，其特征在于，所述方法应用于单片控制装置，所述装置与K个压电陶瓷驱动器通信连接，所述方法包括： 交互目标生产线的K个生产节点，其中，所述K个生产节点包括K个压电陶瓷驱动器和K个压电陶瓷； 采集装配元件在所述K个生产节点的K个装配方案，以定位偏差为索引，对所述K个装配方案进行检索，获得K个定位偏差宽容带宽； 采用视觉定位装置在预设分析窗口对所述K个生产节点的定位台进行位置偏差识别，获得K个定位偏差集合和K个定位偏移趋势方向； 将所述K个定位偏差集合和所述K个定位偏移趋势方向反馈至所述K个压电陶瓷驱动器进行定位偏差优化，获得K个定位偏差优化记录集合； 对所述K个定位偏差优化记录集合进行控制响应因子拟合，生成K个控制响应因子； 按照预设干扰因素集合对所述K个定位偏差优化记录进行检索，将检索结果输入干扰拟合器中进行分析，获得K个干扰拟合因子； 利用所述K个干扰拟合因子对所述K个控制响应因子进行修正，获得K个控制反馈因子； 将所述K个控制反馈因子传输至所述K个压电陶瓷驱动器，驱动所述K个压电陶瓷进行定位台移动； 其中，对所述K个定位偏差优化记录集合进行控制响应因子拟合，生成K个控制响应因子包括： 分别提取所述K个定位偏差优化记录的K个响应速率集合； 按照时间先后顺序对所述K个响应速率集合进行曲线构建，生成K条响应速率曲线； 对所述K条响应速率曲线进行线性拟合，生成K个响应控制因子。

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