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电子科技大学阙肖峰获国家专利权

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龙图腾网获悉电子科技大学申请的专利一种用于含腔目标电磁散射特性获取的内外求解方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120068406B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510104936.7,技术领域涉及:G06F30/20;该发明授权一种用于含腔目标电磁散射特性获取的内外求解方法是由阙肖峰;敖俊源;黄熠昕设计研发完成,并于2025-01-23向国家知识产权局提交的专利申请。

一种用于含腔目标电磁散射特性获取的内外求解方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种用于含腔目标电磁散射特性获取的内外求解方法,涉及电磁场与微波技术领域,包括如下步骤:将含腔结构分解为腔体内和腔体外两个部分,在腔体内外交界的口径面上建立惠更斯等效面;利用电流和电磁场的连续性条件保证内外分区前后电磁建模解的一致性;在内外结构中分别选择不同的求解方法,腔体内部采用级联法结合快速直接求解技术进行计算,腔体外采用并行多层快速多极子算法进行计算,最后利用迭代算法进行内外区域的迭代求解,得到满足计算要求的含腔结构整体的RCS散射特性。本发明提高了含腔目标电磁散射建模的灵活性,解决了腔体结构带来的内谐振问题,显著提升了含腔目标电磁散射求解能力。

本发明授权一种用于含腔目标电磁散射特性获取的内外求解方法在权利要求书中公布了:1.一种用于含腔目标电磁散射特性获取的内外求解方法,其特征在于,包括如下步骤: S1、含腔目标的内外几何分区; S2、腔体内部闭合区域求解:对于耦合关系复杂、矩阵性态差的内域,利用级联法,并结合直接求解技术对腔体内部进行电磁散射求解,包括如下步骤: S201、对腔体内部几何结构进行分段; S202、基于表面积分方程法,离散获得每一段腔体结构的口径导纳矩阵; S203、对各段导纳矩阵进行级联,采用直接求解器求解导纳矩阵的逆矩阵,获得腔体内域的总体口径导纳矩阵; S204、根据广义网络公式和等效原理计算出口径上的等效磁流从而最终算出腔体内域的散射; S3、腔体外部系统求解:对腔体口径外部系统,采用严格的表面积分方程法结合并行多层快速多极子算法进行建模与分析计算; S4、建立口径面上传输条件,确保分区后的场分布与一体化建模中场分布相同; S5、求解含腔结构整体的散射特性:利用迭代算法进行内外区域的迭代求解,得到满足计算要求的含腔结构整体的RCS散射特性。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人电子科技大学,其通讯地址为:611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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