上海新微技术研发中心有限公司蒋娜获国家专利权
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龙图腾网获悉上海新微技术研发中心有限公司申请的专利溅射镀膜用气道结构及具有其的物理气相沉积设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223226155U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422344024.0，技术领域涉及：C23C14/34；该实用新型溅射镀膜用气道结构及具有其的物理气相沉积设备是由蒋娜设计研发完成，并于2024-09-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本溅射镀膜用气道结构及具有其的物理气相沉积设备在说明书摘要公布了：本实用新型提供了一种溅射镀膜用气道结构及具有其的物理气相沉积设备，属于物理气相沉积设备技术领域。该射镀膜用气道结构，设置于溅射镀膜用物理气相沉积设备的沉积室，所述气道结构包括：进气环路，设有至少一个用于引入反应气体的进气口；多个下沉管路，每一所述下沉管路均包括至少一个连接管路和出气管路，所述连接管路的两端分别与所述进气环路和所述出气管路连通，每一所述出气管路的底部设有多个均匀布置的出气口，每一所述出气管路均包括出气环路，各个所述出气环路同心间隔布置，各个所述出气管路与所述沉积室内的所述沉积基座之间的高度差不大于预设值。本实用新型的溅射镀膜用气道结构进气均匀度较佳。
本实用新型溅射镀膜用气道结构及具有其的物理气相沉积设备在权利要求书中公布了：1.一种溅射镀膜用气道结构，设置于溅射镀膜用物理气相沉积设备的沉积室，其特征在于，所述气道结构包括： 进气环路，设有至少一个用于引入反应气体的进气口； 多个下沉管路，每一所述下沉管路均包括至少一个连接管路和出气管路，所述连接管路的两端分别与所述进气环路和所述出气管路连通，每一所述出气管路的底部设有多个均匀布置的出气口，每一所述出气管路均包括出气环路，各个所述出气环路同心间隔布置，各个所述出气管路与所述沉积室内的沉积基座之间的高度差不大于预设值。
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