宁夏大学马丽获国家专利权
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龙图腾网获悉宁夏大学申请的专利由钴铁硅/钯多层膜构成且具有垂直磁各向异性的磁性器件及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119220944B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411332734.X，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权由钴铁硅/钯多层膜构成且具有垂直磁各向异性的磁性器件及方法是由马丽;王雪;万雅帆;龙河海;朱泽镱;郑富;王晓梦;曹志杰设计研发完成，并于2024-09-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本由钴铁硅/钯多层膜构成且具有垂直磁各向异性的磁性器件及方法在说明书摘要公布了：本发明公开由钴铁硅钯多层膜构成且具有垂直磁各向异性的磁性器件的制备方法，具体步骤如下：步骤1.由磁控溅射法直接在衬底上沉积Ta缓冲层；步骤2.用磁控溅射法将Co2FeSi层和Pd层交替沉积构成[Co2FeSiPd]n磁性多层膜，n为堆叠周期数；步骤3.由磁控溅射法在[Co2FeSiPd]n多层膜上沉积覆盖层；步骤4.退火：在Pd覆盖层沉积结束后，将样品进行退火处理。还公开了上述方法制备得到的磁性器件，该磁性器件具有垂直磁各向异性能。
本发明授权由钴铁硅/钯多层膜构成且具有垂直磁各向异性的磁性器件及方法在权利要求书中公布了：1.由钴铁硅钯多层膜构成且具有垂直磁各向异性的磁性器件的制备方法，其特征在于，具体步骤如下： 步骤1.由磁控溅射法直接在衬底（1）上沉积Ta缓冲层（2）； 步骤2.用磁控溅射法将Co2FeSi层（3-2）和Pd层（3-1）交替沉积构成[Co2FeSiPd]n磁性多层膜（3），n为堆叠周期数； 步骤3.由磁控溅射法在[Co2FeSiPd]n多层膜（3）上沉积覆盖层（4）； 步骤4.退火：在覆盖层（4）沉积结束后，将样品进行退火处理； 磁性器件中每一层材料的沉积均采用磁控溅射系统制备，溅射气氛为氩气，氩气流量为18sccm-36sccm； 磁控溅射系统中基板旋转速度为5rpm-20rpm； 步骤2中，堆叠周期数n为1到7； 步骤4中，退火温度为250℃-350℃，退火时间为0.5h-2h。
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