拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司张闯闯获国家专利权
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龙图腾网获悉拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司申请的专利一种歧管阀组结构获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223227915U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202421868962.4,技术领域涉及:F16K11/10;该实用新型一种歧管阀组结构是由张闯闯;吴凤丽;梁彬彬;张强;董文惠设计研发完成,并于2024-08-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种歧管阀组结构在说明书摘要公布了:本实用新型涉及半导体设备制造技术领域,更具体地说,涉及一种歧管阀组结构。本实用新型提供了一种歧管阀组结构,安装于多个腔体之间,包括阀体以及若干阀门:所述阀体的内部设置有多个管路通道;所述阀体的底部设置有多个穿腔管路,所述穿腔管路自阀体下方穿通并与管路通道连接;所述穿腔管路和管路通道均根据腔体的位置进行对称分布;所述阀门,设置在穿腔管路与管路通道之间;所述多个穿腔管路用于通入不同的工艺气体,并通过阀门进行切换与通断操作,以实现工艺过程中工艺气体的切换进入腔体或者返回至分流管路。本实用新型不仅能够实现分流管路与腔体之间的有效切换,还兼顾了调节晶圆薄膜边缘及中央形貌的需求。
本实用新型一种歧管阀组结构在权利要求书中公布了:1.一种歧管阀组结构,安装于多个腔体之间,其特征在于,包括阀体以及若干阀门: 所述阀体的内部设置有多个管路通道; 所述阀体的底部设置有多个穿腔管路,所述穿腔管路自阀体下方穿通并与管路通道连接; 所述穿腔管路和管路通道均根据腔体的位置进行对称分布; 所述阀门,设置在穿腔管路与管路通道之间; 所述多个穿腔管路用于通入不同的工艺气体,并通过阀门进行切换与通断操作,以实现工艺过程中工艺气体的切换进入腔体或者返回至分流管路。
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