源卓微纳科技(苏州)股份有限公司张琦获国家专利权
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龙图腾网获悉源卓微纳科技(苏州)股份有限公司申请的专利一种用于半导体光刻设备的真空泵柜获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223227467U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421777007.X，技术领域涉及：F04B37/14；该实用新型一种用于半导体光刻设备的真空泵柜是由张琦;李志;庄亚政;李波;李凌瞳;张雷设计研发完成，并于2024-07-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于半导体光刻设备的真空泵柜在说明书摘要公布了：本实用新型涉及一种用于半导体光刻设备的真空泵柜，包括：柜体，所述柜体的侧壁或和底壁设有紧密排布的第一通气孔；第一抽气风扇，安装于所述柜体的顶壁；集风罩，罩设于所述第一抽气风扇上方，下侧连接于所述柜体的顶部，上侧设有与外部排气管道连通的出风口；真空泵，位于柜体内部，所述真空泵具有抽气口和排气口；排气管路，所述排气管路一端与所述排气口连接，另一端穿过所述柜体固定于所述集风罩内。本实用新型的用于半导体光刻设备的真空泵柜，将真空泵与外部环境隔开，避免真空泵的热量直接传递到外部环境，避免对半导体光刻设备运行产生影响；同时通过第一抽气风扇和排气管路配合，既实现真空泵的快速散热，又提高外部排气管道的使用寿命。
本实用新型一种用于半导体光刻设备的真空泵柜在权利要求书中公布了：1.一种用于半导体光刻设备的真空泵柜，其特征在于，包括： 柜体，所述柜体的侧壁或和底壁设有紧密排布的第一通气孔； 第一抽气风扇，安装于所述柜体的顶壁； 集风罩，罩设于所述第一抽气风扇上方，下侧连接于所述柜体的顶部，上侧设有与外部排气管道连通的出风口； 真空泵，位于柜体内部，所述真空泵具有抽气口和排气口，所述抽气口与半导体光刻设备中的吸附平台连接； 排气管路，所述排气管路一端与所述排气口连接，另一端穿过所述柜体固定于所述集风罩内。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人源卓微纳科技(苏州)股份有限公司，其通讯地址为：215000 江苏省苏州市工业园区汀兰巷192号C5幢102室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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