江苏日久光电股份有限公司李孝明获国家专利权
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龙图腾网获悉江苏日久光电股份有限公司申请的专利高透光率电磁屏蔽膜获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223231499U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421724856.9，技术领域涉及：H05K9/00；该实用新型高透光率电磁屏蔽膜是由李孝明;胡业新;王何杰;宋尚金设计研发完成，并于2024-07-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本高透光率电磁屏蔽膜在说明书摘要公布了：本申请公开了一种高透光率电磁屏蔽膜，包括依次层叠设置的透明基材层、第一保护层、金属屏蔽层、高折射率增透层和第二保护层；其中，所述高折射率增透层的折射率大于1.68，所述高折射率增透层的厚度为2～30nm。本申请高透过率电磁屏蔽膜在金属屏蔽层和第二保护层之间布置有高折射率增透层，一方面能够增强屏蔽膜的抗环境性能和抗反射性能，另一方面利用光学匹配原理，提升了薄膜的透过率，从而在实现低方阻的同时保证较高的透过率，透过率达到35％，透过率相对于未设置高折射率增透层的屏蔽膜增大了45～55％，能够满足特定应用场景的需求。
本实用新型高透光率电磁屏蔽膜在权利要求书中公布了：1.一种高透光率电磁屏蔽膜，其特征在于，包括依次层叠设置的透明基材层、第一保护层、金属屏蔽层、高折射率增透层和第二保护层； 其中，所述高折射率增透层的折射率大于1.68，所述高折射率增透层的厚度为2～30nm。
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