株式会社斯库林集团安陪裕滋获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社斯库林集团申请的专利涂布方法以及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117438291B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310870363.X，技术领域涉及：H01L21/027；该发明授权涂布方法以及存储介质是由安陪裕滋设计研发完成，并于2023-07-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本涂布方法以及存储介质在说明书摘要公布了：本发明提供能够抑制基板的消耗的同时对吐出控制参数进行再调整的技术。在步骤S6中，评价通过步骤S5的实际涂布获取的实际涂布压力波形Wr1是否与第一理想波形Wt1相同。当在步骤S6中评价为实际涂布压力波形Wr1与第一理想波形Wt1不同的情况下，进行吐出控制参数的再调整。在吐出控制参数的再调整中，进行更新吐出控制参数的步骤S7、通过进行模拟涂布来获取模拟涂布压力波形的步骤S8以及评价模拟涂布压力波形与第二理想波形Wt2是否相同的步骤S9。
本发明授权涂布方法以及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种涂布方法，对基板涂布处理液，其中，包括： 实际涂布工序，进行根据预先设定的吐出控制参数，使所述基板相对于喷嘴移动，并从所述喷嘴向所述基板吐出处理液的实际涂布； 第一获取工序，获取表示所述实际涂布工序中的所述喷嘴的吐出压力随时间发生的变化的实际涂布压力波形； 第一评价工序，评价所述实际涂布压力波形；以及 再调整工序，基于所述第一评价工序的评价结果，对所述吐出控制参数进行再调整； 所述再调整工序包括： 第一模拟涂布工序，进行根据所述吐出控制参数，从所述喷嘴向所述基板以外的部位吐出所述处理液的模拟涂布； 第二获取工序，获取表示所述第一模拟涂布工序中的所述吐出压力随时间发生的变化的第一模拟涂布压力波形； 第二评价工序，评价所述第一模拟涂布压力波形；以及 第一更新工序，基于所述第二评价工序的评价结果，更新所述吐出控制参数。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人株式会社斯库林集团，其通讯地址为：日本京都府；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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