长鑫存储技术有限公司李静获国家专利权
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龙图腾网获悉长鑫存储技术有限公司申请的专利光掩模版图数据的处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115755535B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211457158.2，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光掩模版图数据的处理方法是由李静设计研发完成，并于2022-11-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本光掩模版图数据的处理方法在说明书摘要公布了：本公开实施例提供一种光掩模版图数据的处理方法，包括：提供初始框架图层数据以及芯片图层数据，芯片图层数据用于定义芯片图层，芯片图层包括具有图案的芯片目标区，初始框架图层数据用于定义初始框架图层，初始框架图层包括框架目标区以及框架虚设区，框架虚设区包括被框架目标区所环绕的第一区，第一区与芯片目标区正对，且初始框架图层的图案位于框架目标区以及框架虚设区，或者仅位于框架目标区；基于初始框架图层数据得到框架图层数据，框架图层数据用于定义框架图层，框架图层为仅保留位于框架目标区的图案的初始框架图层；基于框架图层数据以及芯片图层数据得到版图图层数据。本公开实施例至少有利于提高版图图层数据的准确性。
本发明授权光掩模版图数据的处理方法在权利要求书中公布了：1.一种光掩模版图数据的处理方法，其特征在于，包括： 提供初始框架图层数据以及芯片图层数据，所述芯片图层数据用于定义芯片图层，所述芯片图层包括具有图案的芯片目标区，所述初始框架图层数据用于定义初始框架图层，所述初始框架图层包括框架目标区以及框架虚设区，所述框架虚设区包括被所述框架目标区所环绕的第一区，所述第一区与所述芯片目标区正对，且所述初始框架图层的图案位于所述框架目标区以及所述框架虚设区，或者仅位于所述框架目标区； 基于所述初始框架图层数据得到框架图层数据，所述框架图层数据用于定义框架图层，所述框架图层为仅保留位于所述框架目标区的图案的所述初始框架图层； 基于所述框架图层数据以及所述芯片图层数据得到版图图层数据，所述版图图层数据用于定义版图图层，所述版图图层包括版图目标区，所述版图目标区与所述框架目标区以及所述芯片目标区正对，且所述版图目标区具有所述框架目标区的图案，以及具有所述芯片目标区的图案。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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