京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司杨堂获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请的专利一种掩膜版、曝光设备和曝光方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115542658B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211203997.1，技术领域涉及：G03F1/42；该发明授权一种掩膜版、曝光设备和曝光方法是由杨堂;叶超;魏小丹;何宝生;刘沛;邓祖文设计研发完成，并于2022-09-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种掩膜版、曝光设备和曝光方法在说明书摘要公布了：本申请实施例提供了一种掩膜版、曝光设备和曝光方法。该掩膜版包括：有多个子掩膜图形组的第一掩膜子版和有多个透光区的第二掩膜子版。第二掩膜子版设置在第一掩膜子版的一侧，且能够相对第一掩膜子版移动。移动对位结构与第二掩膜子版连接，用于根据接收到的对位信号，控制第二掩膜子版移动，以使得在不同的曝光过程中透光区分别对应不同的子掩膜图形组。本申请实施例可以将多种掩膜版图形集成在一张掩膜版中，减少掩膜版使用数量，降低生产成本，同时减少生产时掩膜版的移动风险及其造成的产品工艺不良。
本发明授权一种掩膜版、曝光设备和曝光方法在权利要求书中公布了：1.一种掩膜版，其特征在于，包括： 第一掩膜子版，包括多个子掩膜图形，以及位于相邻所述子掩膜图形之间的遮光区，多个所述子掩膜图形中，包括多组子掩膜图形组，同一所述子掩膜图形组包括同种曝光图案，不同所述子掩膜图形组包括不同种曝光图案； 第二掩膜子版，设置在所述第一掩膜子版的一侧，包括多个透光区，以及位于相邻所述透光区之间的非透光区； 移动对位结构，位于所述第二掩膜子版远离所述第一掩膜子版的一侧，并与所述第二掩膜子版连接，且在所述第二掩膜子版上的正投影位于所述非透光区，用于根据接收到的对位信号，控制所述第二掩膜子版相对所述第一掩膜子版移动，以使得在不同的曝光过程中所述透光区分别对应不同的子掩膜图形组；任一所述子掩膜图形组与所述透光区对应时，该子掩膜图形组在所述第二掩膜子版上的正投影面积小于所述透光区的面积，且与所述透光区不对应的所述子掩膜图形组在所述第二掩膜子版上的正投影位于所述非透光区内。
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