深圳迈塔兰斯科技有限公司朱健获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳迈塔兰斯科技有限公司申请的专利一种加工透明衬底的光刻工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115327865B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211119620.8，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种加工透明衬底的光刻工艺是由朱健;朱瑞;郝成龙;谭凤泽设计研发完成，并于2022-09-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种加工透明衬底的光刻工艺在说明书摘要公布了：本发明提供了一种加工透明衬底的光刻工艺，包括：在透明衬底的正面镀设环状结构的增反膜，所述增反膜的宽度大于或等于光刻机探测器的探测精度；所述增反膜被配置为能够反射所述工作波段的光线；基于光刻机对所述透明衬底的正面有效区域进行光刻加工，所述正面有效区域为所述透明衬底的正面中除所述增反膜之外的区域。通过本发明实施例提供的加工透明衬底的光刻工艺，在透明衬底的正面镀设环状结构的增反膜，该增反膜能够反射光刻机工作波段的光线，使得设有增反膜的透明衬底被放入光刻机后，能够被光刻机探测器识别到，进而能够实现对透明衬底进行光刻加工；工艺简单，且透明衬底背面没有其它金属膜，不会污染光刻机。
本发明授权一种加工透明衬底的光刻工艺在权利要求书中公布了：1.一种加工透明衬底的光刻工艺，其特征在于，包括： 在透明衬底的正面镀设环状结构的增反膜，所述增反膜的宽度大于或等于光刻机探测器的探测精度；所述透明衬底指的是选用的衬底在所述光刻机探测器的工作波段透明，所述增反膜被配置为能够反射所述光刻机探测器的工作波段的光线；其中，入射至所述增反膜的光线被反射至所述光刻机探测器，使得所述光刻机探测器能够探测到所述增反膜，进而能够间接识别出所述透明衬底； 基于光刻机对所述透明衬底的正面有效区域进行光刻加工，所述正面有效区域为所述透明衬底的正面中除所述增反膜之外的区域。
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