上海华力微电子有限公司韩俊伟获国家专利权
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龙图腾网获悉上海华力微电子有限公司申请的专利缺陷监控方法及缺陷监控系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115170495B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210744426.2，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权缺陷监控方法及缺陷监控系统是由韩俊伟设计研发完成，并于2022-06-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本缺陷监控方法及缺陷监控系统在说明书摘要公布了：本发明提供了一种缺陷监控方法及缺陷监控系统，缺陷监控方法包括：建立数字信号数据库：逐层采集测试晶圆的第一光学图像，人为定义滋扰性缺陷，对存在所述滋扰性缺陷的第一光学图像进行数字分析，并将得到的第一数字信号存储至所述数字信号数据库内；采集监控晶圆的第二光学图像并进行数字分析，输出所述监控晶圆的第二数字信号，并将所述第二数字信号与所述数字信号数据库内的第一数字信号进行比对，若所述第二数字信号与所述数字信号数据库内的某一所述第一数字信号相同，则过滤掉所述第二光学图像。通过建立数字信号数据库以及采用数字信号分析比对的方式来对缺陷进行过滤，智能高效，精准度高，有效提高了晶圆的良率。
本发明授权缺陷监控方法及缺陷监控系统在权利要求书中公布了：1.一种缺陷监控方法，其特征在于，包括： 建立数字信号数据库：逐层采集测试晶圆的第一光学图像，人为定义滋扰性缺陷，对存在所述滋扰性缺陷的第一光学图像进行数字分析，并将得到的第一数字信号存储至所述数字信号数据库内； 采集监控晶圆的第二光学图像并进行数字分析，输出所述监控晶圆的第二数字信号，并将所述第二数字信号与所述数字信号数据库内的第一数字信号进行比对，若所述第二数字信号与所述数字信号数据库内的某一所述第一数字信号相同，则过滤掉所述第二光学图像； 所述缺陷监控方法还包括： 对所述第一数字信号进行分析，得到所述第一数字信号的变化范围； 若所述第二数字信号与所述数字信号数据库内任一所述第一数字信号均不相同，则进一步判断所述第二数字信号是否位于某一所述第一数字信号的变化范围内，若是，则过滤掉所述第二光学图像，若否，则输出所述监控晶圆的缺陷分布图。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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