西安应用光学研究所王松林获国家专利权
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龙图腾网获悉西安应用光学研究所申请的专利一种光学基底表面ITO薄膜的高效去除方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114649195B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210231012.X，技术领域涉及：H01L21/02；该发明授权一种光学基底表面ITO薄膜的高效去除方法是由王松林;张建付;杨崇民;刘青龙;米高园;昌明;李明伟;陶忠设计研发完成，并于2022-03-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光学基底表面ITO薄膜的高效去除方法在说明书摘要公布了：本发明属于光学技术领域，具体涉及一种光学基底表面ITO薄膜的高效去除方法,该方法将将锌粉或铝粉大致均匀地撒在镀有ITO薄膜的光学基底表面；用软性耐腐蚀物蘸取盐酸对ITO薄膜表面反复均匀擦拭，然后将擦拭好的光学基底放在清水槽中用超声波清洗，去除表面水分。该方法对于光学基底表面镀制的ITO薄膜，能够有效、快速地实现去除ITO薄膜，不易损伤光学基底表面。该方法不仅适用于化学稳定性较好的k9玻璃、石英玻璃等光学材料，同时也适用于ZnS、ZnSe、蓝宝石、CaF2、BaF2等易腐蚀易损伤光学基底。
本发明授权一种光学基底表面ITO薄膜的高效去除方法在权利要求书中公布了：1.一种光学基底表面ITO薄膜的高效去除方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤： 步骤1：给将要去除的ITO薄膜表面撒适量的金属粉； 步骤2：使用柔性且耐酸的工具，蘸取盐酸液，在撒有金属粉的ITO薄膜表面反复轻擦，使ITO薄膜被快速分解，同时不损伤光学基底表面； 步骤3：使用清水超声波清洗去膜后的光学基底，并做脱水处理； 其中，所述步骤1中，所述金属粉为易与盐酸反应的金属粉材料。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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