株式会社国际电气佐藤武敏获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社国际电气申请的专利基板处理装置、半导体装置的制造方法、基板处理方法和记录介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115074699B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210113436.6，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权基板处理装置、半导体装置的制造方法、基板处理方法和记录介质是由佐藤武敏;板谷秀治;三部诚设计研发完成，并于2022-01-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理装置、半导体装置的制造方法、基板处理方法和记录介质在说明书摘要公布了：本发明提供基板处理装置、半导体装置的制造方法、基板处理方法和记录介质。本发明的基板处理装置具有：晶圆盒，其将多个基板在预定的排列方向上排列并保持；内管，其围绕晶圆盒来设置，并在与基板的排列方向正交的方向上形成有进行排气的排气孔；混合部，其将在内管内的温度下会相互反应的用于基板处理的多种气体预先混合而生成混合气体；和喷嘴，其与内管的内壁分离开设置，从沿着基板的排列方向形成的多个吐出孔向内管内吐出由混合部供给的混合气体；吐出孔的吐出方向不是朝向晶圆盒而是朝向内管的内壁。
本发明授权基板处理装置、半导体装置的制造方法、基板处理方法和记录介质在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，具有： 晶圆盒，其将多个基板在预定的排列方向上排列并保持， 内管，其围绕晶圆盒来设置，并在与基板的排列方向正交的方向上形成有进行排气的排气孔， 多个混合部，其将在内管内的温度下会相互反应且生成固态副产物的用于基板处理的多种气体预先混合而生成混合气体，和 多个喷嘴，其与所述内管的内壁分离开设置，将由所述多个混合部供给的混合气体从沿着所述基板的所述排列方向形成的多个吐出孔分别向所述内管内吐出； 所述多个喷嘴设置成与将内管内的基板排列区域沿着基板的排列方向分割的多个分区对应， 所述多个吐出孔的所有吐出方向不是朝向所述晶圆盒而是朝向所述内管的内壁，且不与其他喷嘴冲突， 多个基板沿着上下方向排列， 与基板排列区域中最下方分区以外的分区对应而设置的喷嘴的吐出孔，经过与最下方分区对应而设置的喷嘴的上方空间，向着内管的内壁开口。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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