华为技术有限公司;益丰新材料股份有限公司王磊获国家专利权
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龙图腾网获悉华为技术有限公司;益丰新材料股份有限公司申请的专利光学聚合物及其制备方法、光学聚合物母粒、光学元件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116376018B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111582968.6，技术领域涉及：C08G75/08；该发明授权光学聚合物及其制备方法、光学聚合物母粒、光学元件是由王磊;梁万根;张建林;邹海良;钟轶良;曹飞羽设计研发完成，并于2021-12-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学聚合物及其制备方法、光学聚合物母粒、光学元件在说明书摘要公布了：本申请涉及光学材料技术领域，提供了一种光学聚合物及其制备方法、光学聚合物母粒、光学元件。所述光学聚合物由如下式1所示的聚合单体聚合形成，其中，g、h分别选自1～5的整数，且g、h中至少有一个为1；R1为环状烃基、芳基结构中的一种；R2、R3、R4各自独立地选自H、‑CH3、‑CH2CH3、Cl、I、Br中的一种；X为氧原子或硫原子；a、b、m、n、p各自单独地选自0、1或2，且当X为氧原子时，a、b不同时为0；o为0或1。本申请提供的光学聚合物，在能够保持良好的耐热性能和较低的体积收缩率的同时，具有高折射率和高阿贝数的优点。
本发明授权光学聚合物及其制备方法、光学聚合物母粒、光学元件在权利要求书中公布了：1.一种光学聚合物，其特征在于，所述光学聚合物由如下式1所示的聚合单体聚合形成， 其中，g、h分别选自1～5的整数，且g、h中至少有一个为1； R1为含有或者不含有杂原子的环状烃基、芳基结构中的一种； R2、R3、R4各自独立地选自H、-CH3、-CH2CH3、Cl、I、Br中的一种； X为氧原子或者硫原子，且当g大于或等于2时，多个X各自独立地选自氧原子或硫原子； a、b、m、n、p各自单独地选自0、1或2，且a、b不同时为0； o为0或1，且当h大于或等于2时，多个-COoCR2＝CR3R4中的o各自独立地选自0或1。
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