烟台京师材料基因组工程研究院;烟台显华光电材料研究院有限公司陈义丽获国家专利权
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龙图腾网获悉烟台京师材料基因组工程研究院;烟台显华光电材料研究院有限公司申请的专利一种含羟基三芳胺的化合物及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116262730B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111524173.X，技术领域涉及：C07D263/57；该发明授权一种含羟基三芳胺的化合物及其应用是由陈义丽;丰佩川;杨树斌;邢其锋;王鹏程;胡灵峰;陈跃设计研发完成，并于2021-12-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种含羟基三芳胺的化合物及其应用在说明书摘要公布了：本申请提供了一种含羟基三芳胺的化合物，其可以用作光提取材料，其结构如式I所示。在式I中，传统光提取层材料的三芳胺主体结构上引入羟基以及苯并噁唑或苯并噻唑，羟基中的氢原子可以与苯并噁唑或苯并噻唑上的杂原子形成分子内氢键，提高了分子的平面性，增大了分子之间的堆积密度。与此同时，此分子内氢键在光照条件下发生分子内的质子转移，形成共振结构，此过程会将紫外光能量转化为热能释放，而不是发生光化学反应导致的材料变质，从而，减少了紫外光对器件造成的损害。此外，该化合物的原材料易于获取，在保证具备良好器件保护功能的同时具有更高的经济价值。本申请还提供了一种有机电致发光器件和显示装置。
本发明授权一种含羟基三芳胺的化合物及其应用在权利要求书中公布了：1.一种化合物，其结构如式I所示： 其中，X1-X2各自独立地选自下述基团Y1至Y12中的任一个： 其中，A1-A6各自独立地选自O或S； Y选自O或S； L1和L2选自下述基团M1至M8中的任一个： 其中A8选自O或S； L3选自未取代或被Ra取代的C6-C30的亚芳基、未取代或被Ra取代的C2-C30的亚杂芳基；各个基团的取代基Ra各自独立地选自氘、C1-C4的烷基、C6-C18的芳基、C2-C18的杂芳基； 所述杂芳基和所述亚杂芳基中的杂原子各自独立地选自O、S、N。
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