铠侠股份有限公司香川譲德获国家专利权
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龙图腾网获悉铠侠股份有限公司申请的专利描绘方法、母版制造方法及描绘装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115113476B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110929920.1，技术领域涉及：G03F1/78；该发明授权描绘方法、母版制造方法及描绘装置是由香川譲德设计研发完成，并于2021-08-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本描绘方法、母版制造方法及描绘装置在说明书摘要公布了：本发明涉及一种描绘方法、母版制造方法及描绘装置。根据本发明的一实施方式，描绘方法包含取得表示衬底的落差部的配置状态的落差部配置信息。所述方法还包含取得表示所述落差部的高度的落差部高度信息。所述方法还包含测定所述衬底的高度。所述方法还包含基于所述取得的落差部配置信息及落差部高度信息、与所述测定出的高度，算出表示与所述衬底的描绘位置对应的电子束的射束聚焦值的分布的聚焦图。所述方法还包含由基于所述算出的焦点图决定的射束聚焦值的电子束，在所述衬底描绘图案。
本发明授权描绘方法、母版制造方法及描绘装置在权利要求书中公布了：1.一种描绘方法，包含：取得表示衬底的落差部的配置状态的落差部配置信息；取得表示所述落差部的高度的落差部高度信息；测定所述衬底的高度；基于所述取得的落差部配置信息及落差部高度信息、与所述测定出的高度，算出表示与所述衬底的描绘位置对应的电子束的射束聚焦值的分布的聚焦图；及由基于所述算出的聚焦图决定的射束聚焦值的电子束，在所述衬底描绘图案；其中 包含所述落差部地进行所述高度的测定，且 所述聚焦图的算出是： 基于包含所述落差部而测定出的高度算出表示所述衬底的高度的分布的第1高度分布， 算出从所述算出的第1高度分布基于所述取得的落差部配置信息及落差部高度信息而去除所述落差部的高度的影响的第2高度分布， 对所述算出的第2高度分布添加所述落差部配置信息及所述落差部高度信息。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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