西湖大学仇旻获国家专利权
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龙图腾网获悉西湖大学申请的专利一种利用飞秒激光制造有序亚波长纳米条纹的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115703165B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110906861.6，技术领域涉及：B23K26/00；该发明授权一种利用飞秒激光制造有序亚波长纳米条纹的方法是由仇旻;耿娇;石理平设计研发完成，并于2021-08-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种利用飞秒激光制造有序亚波长纳米条纹的方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种利用飞秒激光制造有序亚波长纳米条纹的方法，包括：利用单束飞秒激光照射由金属和半导体组成的复合薄膜；所述金属薄膜由高损耗的材料蒸镀或溅射而成，所述半导体薄膜由光学波段较高吸收，且易发生氧化反应的材料组成。在飞秒激光作用下，所述复合薄膜表面激发出准圆柱波，其与入射激光发生干涉，形成周期性分布的氧化条纹；所述条纹取向与入射的飞秒激光的偏振方向垂直。
本发明授权一种利用飞秒激光制造有序亚波长纳米条纹的方法在权利要求书中公布了：1.一种利用飞秒激光制造有序亚波长纳米条纹的方法，其特征在于，包括：利用飞秒激光照射金属-半导体复合薄膜的半导体薄膜侧，诱导半导体材料发生氧化反应形成氧化物颗粒，进一步在近场增强效应作用下形成氧化物纳米棒，最终在激光激发的准圆柱波诱导下，自组织形成周期性分布氧化物条纹； 所述复合薄膜下层为金属薄膜，上层为半导体薄膜，半导体薄膜的厚度在10-200纳米之间； 复合薄膜中，金属材料选自氮化钛； 所述半导体材料选自硅； 所述金属薄膜厚度为50~200nm。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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