铠侠股份有限公司佐藤隆获国家专利权
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龙图腾网获悉铠侠股份有限公司申请的专利模板、被加工构件及对齐方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115113497B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110871757.8，技术领域涉及：G03F9/00；该发明授权模板、被加工构件及对齐方法是由佐藤隆;三木聪设计研发完成，并于2021-07-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本模板、被加工构件及对齐方法在说明书摘要公布了：对齐标记包含沿第1方向以第1间距排列的第1标记、和沿第1方向以第2间距排列的第2标记。第1标记中的至少其中之一包含第1区域和第3区域。第2标记中的至少其中之一包含第2区域和第3区域。第1区域具有沿第1方向以线和间隔状配置的第1图案。第2区域具有沿与第1方向正交的第2方向以线和间隔状配置的第2图案。
本发明授权模板、被加工构件及对齐方法在权利要求书中公布了：1.一种模板，其具备对齐标记， 所述对齐标记包含沿第1方向以第1间距排列的第1标记、和沿所述第1方向以第2间距排列的第2标记，所述第1标记中的至少其中之一包含第1区域和第3区域，所述第2标记中的至少其中之一包含第2区域和所述第3区域，所述第1区域具有沿所述第1方向以线和间隔状配置的第1图案，所述第2区域具有沿与所述第1方向正交的第2方向以线和间隔状配置的第2图案， 所述第1区域使第1偏振光以与第2偏振光相比更高的透射率透射，且将所述第2偏振光以比所述第1偏振光更高的反射率反射，所述第1偏振光的电场沿包含所述第1方向的第1平面振动，所述第2偏振光的电场沿与所述第1平面正交的第2平面振动， 所述第2区域使所述第2偏振光以比所述第1偏振光更高的透射率透射，将所述第1偏振光以比所述第2偏振光更高的反射率反射。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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