富士胶片株式会社山田悟获国家专利权
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龙图腾网获悉富士胶片株式会社申请的专利组合物、转印膜、层叠体的制造方法、电路配线的制造方法及电子器件的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116157433B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180060522.9，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权组合物、转印膜、层叠体的制造方法、电路配线的制造方法及电子器件的制造方法是由山田悟;两角一真;丰冈健太郎设计研发完成，并于2021-07-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本组合物、转印膜、层叠体的制造方法、电路配线的制造方法及电子器件的制造方法在说明书摘要公布了：本发明的课题在于提供一种涂布性优异的组合物。并且，本发明的另一课题在于提供一种与上述组合物有关的转印膜、层叠体的制造方法、电路配线的制造方法及电子器件的制造方法。本发明的组合物包含碱可溶性树脂、聚合性化合物及化合物A，上述化合物A为具有由下述通式1表示的基团的化合物。通式1：*‑CF2‑H，式中，*表示键合位置。
本发明授权组合物、转印膜、层叠体的制造方法、电路配线的制造方法及电子器件的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种组合物，其包含碱可溶性树脂、聚合性化合物及化合物A， 所述化合物A为重均分子量为5000以上的高分子化合物， 所述高分子化合物包含源自由下述通式（4A）表示的单体的结构单元， 式中，R1表示氢原子或甲基， X表示氧原子、硫原子或-N（R2）-， m及n分别独立地表示1～6的整数， R2表示氢原子或碳原子数1～4的烷基， 所述高分子化合物还包含源自由下述通式（5）表示的单体的结构单元， 式中，R3表示氢原子或甲基， Y表示氧原子、硫原子或-N（R5）-， AL表示任选地具有取代基的亚烷基， nAL表示2以上的整数， R4表示氢原子或碳原子数1～6的烷基， R5表示氢原子或碳原子数1～4的烷基。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人富士胶片株式会社，其通讯地址为：日本国东京都；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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